[发明专利]透镜系统和光学设备

说明书

下面的优先权申请的公开通过引用被包含在此：

在2009年11月30日提交的日本专利申请No.2009-272048。

技术领域

本发明涉及适合于单镜头反射式照相机的可更换镜头的透镜系统和配备该透镜系统的光学设备。

背景技术

所谓的双高斯型透镜系统已经被用作用于单镜头反射式照相机的可更换镜头和影印镜头的透镜系统，并且，已经在诸如日本公开专利申请No.2007-333790中提出了许多透镜系统。关于这样的双高斯型透镜系统，用于抑制使得光学性能变差的幻像和闪耀以及像差的要求变得越来越强。因此，对于被施加到透镜表面的防反射涂层需要较高的光学性能，以便为了满足这样的要求，多层设计技术和多层涂敷技术持续地进步(例如，参见日本公开专利申请No.2000-356704)。

然而，传统的双高斯型透镜系统产生大的彗差，因此它没有足够高的光学性能。另外，存在易于产生生成幻像和闪耀的反射光的问题。

发明内容

根据上述问题而做出了本发明，并且本发明的目的是提供一种双高斯型透镜系统和配备了该透镜系统的光学设备，所述双高斯型透镜系统能够实现良好的光学性能，并且减少幻像和闪耀。

根据本发明的第一方面，提供了一种透镜系统，以从物体侧起的顺序包括：第一透镜组；以及，第二透镜组，其具有正折射光焦度；所述第一透镜组包括具有正折射光焦度的子透镜组和具有负折射光焦度的子透镜组，所述具有负折射光焦度的子透镜组包括具有面向所述物体侧的凸表面的弯月形透镜，满足下面的条件表达式(1)和(2)：

1.910＜ndh             (1)

-0.400＜f/f1＜0.500    (2)

其中，ndh表示构成所述透镜系统的在d线具有最高折射率的透镜的在d线(波长＝587.6nm)的折射率，f1表示第一透镜组的焦距，并且f表示所述透镜系统的焦距，在所述第一透镜组和所述第二透镜组的至少一个光学表面上形成防反射涂层，并且，所述防反射涂层包括由湿法形成的至少一层。

根据本发明的第二方面，提供了一种配备了根据第一方面的透镜系统的光学设备。

根据本发明的第三方面，提供了一种透镜系统，以从物体侧起的顺序包括：第一透镜组；以及，第二透镜组，其具有正折射光焦度；所述第一透镜组包括具有正折射光焦度的子透镜组和具有负折射光焦度的子透镜组，所述具有负折射光焦度的子透镜组包括具有面向所述物体侧的凸表面的弯月形透镜，所述透镜系统包括满足下面的条件表达式(4)和(2)的至少一个负透镜：

1.820＜nNh             (4)

-0.400＜f/f1＜0.500    (2)

其中，nNh表示所述负透镜的在d线(波长＝587.6nm)的折射率，f1表示第一透镜组的焦距，并且f表示所述透镜系统的焦距，在所述第一透镜组和所述第二透镜组的至少一个光学表面上形成防反射涂层，并且，所述防反射涂层包括由湿法形成的至少一层。

根据本发明的第四方面，提供了一种配备了根据第三方面的透镜系统的光学设备。

根据本发明的第五方面，提供了一种透镜系统，以从物体侧起的顺序包括：第一透镜组；以及，第二透镜组，其具有正折射光焦度；所述第一透镜组包括具有正折射光焦度的子透镜组和具有负折射光焦度的子透镜组，所述具有负折射光焦度的子透镜组包括具有面向所述物体侧的凸表面的弯月形透镜，满足下面的条件表达式(9)和(2)：

1.890＜n2dh            (9)

-0.400＜f/f1＜0.500    (2)

其中，n2dh表示构成所述第二透镜组的在d线具有最高折射率的透镜的在d线(波长＝587.6nm)的折射率，f1表示第一透镜组的焦距，并且f表示所述透镜系统的焦距，在所述第一透镜组和所述第二透镜组的至少一个光学表面上形成防反射涂层，并且，所述防反射涂层包括由湿法形成的至少一层。

根据本发明的第六方面，提供了一种用于制造透镜系统的方法，所述透镜系统沿着光轴以从物体侧起的顺序包括第一透镜组和第二透镜组，所述方法包括步骤：向在所述第一透镜组和所述第二透镜组中的至少一个光学表面上施加包括由湿法形成的至少一层的防反射涂层；在具有负折射光焦度的子透镜组中布置具有面向所述物体侧的凸表面的弯月形透镜；以下述方式来布置所述第一透镜组和所述第二透镜组：所述第一透镜组由具有正折射光焦度的子透镜组和具有负折射光焦度的子透镜组构成，所述第二透镜组具有正折射光焦度，满足下面的条件表达式(1)和(2)：