[发明专利]CT系统的散射校正方法及CT系统有效

专利信息
申请号: 201010574162.8 申请日: 2010-12-06
公开(公告)号: CN101987021A 公开(公告)日: 2011-03-23
发明(设计)人: 胡战利;夏丹;桂建保;邹晶;戎军艳;张其阳;郑海荣 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 吴平
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: ct 系统 散射 校正 方法
【权利要求书】:

1.一种CT系统的散射校正方法,包括以下步骤:

获取亮场图像;

将散射校正器放置于被扫描物体与探测器之间,进行等角度圆周扫描得到衰减投影图像;

分别对被扫描物体和散射校正器进行等角度圆周扫描得到投影图像集和散射校正图像;

根据所述亮场图像、散射校正图像以及衰减投影图像生成散射强度分布图;

通过所述投影图像集与散射强度分布图之差得到校正后的投影图像集。

2.根据权利要求1所述的CT系统的散射校正方法,其特征在于,所述散射校正器是在薄板中嵌入小球,所述薄板的吸收系数小于所述小球的吸收系数。

3.根据权利要求2所述的CT系统的散射校正方法,其特征在于,所述小球在所述薄板中呈棋盘分布。

4.根据权利要求1所述的CT系统的散射校正方法,其特征在于,所述根据所述亮场图像、散射校正图像以及衰减投影图像生成散射强度分布图的步骤为:

通过遗传算法从散射校正图像中得到各个投影圆的中心坐标;

从亮场图像中得到与所述各个投影圆相对应的初始射线强度,并从散射校正图像中得到与所述各个投影圆相对应的穿过散射校正器后的射线强度以及校正的总射线强度;

从投影图像集中获取物体总射线强度;

通过所述初始射线强度、穿过散射校正器后的射线强度、校正的总射线强度以及物体总射线强度得到衰减投影图像中的散射值分布;

对所述散射值分布进行二维插值及角度插值得到散射强度分布图。

5.根据权利要求1所述的CT系统的散射校正方法,其特征在于,所述通过所述投影图像集与散射强度分布图之差得到校正后的投影图像集的步骤之后还包括:

对所述校正后的投影图像集进行图像重建。

6.一种CT系统,其特征在于,至少包括:

扫描模块,用于获取亮场图像,对被扫描物体以及置于所述被扫描物体与探测器之间的散射校正器进行等角度扫描得到衰减投影图像,并分别对被扫描物体和散射校正器进行等角度圆周扫描得到投影图像集和散射校正图像;

处理模块,用于根据所述亮场图像、散射校正图像以及衰减投影图像生成散射强度分布图;

校正模块,用于通过所述投影图像集与散射强度分布图之差得到校正后的投影图像集。

7.根据权利要求6所述的CT系统,其特征在于,所述散射校正器是在薄板中嵌入小球,所述薄板的吸收系数小于所述小球的吸收系数。

8.根据权利要求7所述的CT系统,其特征在于,所述小球在所述薄板中呈棋盘分布。

9.根据权利要求6所述的CT系统,其特征在于,所述处理模块包括:

位置获取单元,用于通过遗传算法从散射校正图像中得到各个投影圆的中心坐标;

强度获取单元,用于从亮场图像中得到与所述各个投影圆相对应的初始射线强度,并从散射校正图像中得到与所述各个投影圆相对应的穿过散射校正器后的射线强度以及校正的总射线强度,从投影图像集中获取物体总射线强度;

计算单元,用于通过所述初始射线强度、穿过散射校正器后的射线强度、校正的总射线强度以及物体总射线强度得到衰减投影图像中的散射值分布;

插值单元,用于对所述散射值分布进行二维插值及角度插值,得到散射强度分布图。

10.根据权利要求6所述的CT系统,其特征在于,还包括:

重建模块,用于对所述校正后的投影图像集进行图像重建。

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