[发明专利]制造有机发光显示设备的方法和有机发光显示设备

权利要求书

1.一种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括如下步骤：

在基板上形成第一电极；

在基板和第一电极上形成像素限定层，所述像素限定层包括暴露第一电极的预定的区域的开口；

在像素限定层上和像素限定层的开口的内部形成电荷传输层；

在电荷传输层上执行疏水加工；

在电荷传输层上执行亲水加工，使得电荷传输层的与开口对应的部分制成亲水的；

在电荷传输层上形成有机发光层；

形成电连接到有机发光层的第二电极。

2.如权利要求1所述的方法，其中，将有机发光层形成在所述开口内部。

3.如权利要求1所述的方法，其中，电荷传输层包括空穴传输层和空穴注入层中的至少一种。

4.如权利要求1所述的方法，其中，执行疏水加工的步骤包括在氟基气体的气氛下使用等离子体或紫外灯。

5.如权利要求4所述的方法，其中，氟化物基气体是CF₄。

6.如权利要求1所述的方法，其中，执行亲水加工的步骤包括将紫外光辐射到电荷传输层的与开口对应的区域上。

7.如权利要求6所述的方法，其中，执行亲水加工的步骤还包括在空气或氮气的气氛中使用紫外光。

8.如权利要求7所述的方法，其中，执行亲水加工的工艺还包括：

提供掩模，所述掩模具有分别与开口对应的透射区域；

使用紫外灯通过掩模辐射紫外光。

9.如权利要求7所述的方法，其中，将紫外光辐射到电荷传输层的与开口对应的区域的步骤包括使用紫外激光。

10.如权利要求9所述的方法，其中，通过扫描聚焦为大小与开口对应的紫外激光束来执行亲水加工。

11.如权利要求1所述的方法，其中，亲水加工包括使所述开口的底表面和侧表面上的电荷传输层的部分是亲水的的步骤。

12.如权利要求1所述的方法，其中，执行亲水加工的步骤包括仅使在像素限定层的开口的内部的电荷传输层的上表面是亲水的。

13.如权利要求12所述的方法，其中，在亲水加工之后，在围绕开口的像素限定层的上表面上限定电荷传输层的疏水部分。

14.如权利要求13所述的方法，其中，在每个开口内部的亲水的电荷传输层的部分完全被疏水的电荷传输层的部分围绕。

15.如权利要求1所述的方法，其中，在亲水加工之前执行疏水加工。

16.如权利要求15所述的方法，其中，

在电荷传输层的整个上表面上执行疏水加工，

仅在电荷传输层的与开口对应的部分上执行亲水加工。

17.如权利要求1所述的方法，其中，使用喷印方法来形成有机发光层。

18.一种按照权利要求1的方法制造的有机发光显示设备。