[发明专利]触控感应器图案及信号导线的制造方法无效

专利信息
申请号: 201010575679.9 申请日: 2010-12-02
公开(公告)号: CN102486692A 公开(公告)日: 2012-06-06
发明(设计)人: 杨恺悌;张志成;刘志勇;杨振宁 申请(专利权)人: 洋华光电股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G03F7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 中国台湾桃园县观音*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 感应器 图案 信号 导线 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种触控感应器图案及信号导线的制造方法,包括以下步骤:

提供一高透光率的衬底,在其一主表面上至少设有第一与第二导电性镀膜;

对着衬底上的导电性镀膜表面投射高能光束,并同时使该高能光束与衬底之间依循一预设的位移轨迹作相对运动,以在第一与第二导电性镀膜上制作多个绝缘性槽沟线,形成具有感测区及线路区的预定图案;

对该衬底进行黄光工艺,以在线路区的导电性镀膜表面覆设一层光刻胶薄膜;以及

对该衬底进行蚀刻工艺,以蚀刻移除在感测区内的第一导电性镀膜;由上述步骤制作成在该衬底的感测区内具有第二导电性镀膜的预定图案,而在线路区内仍具有第一与第二导电性镀膜的预定图案。

2.如权利要求1所述的触控感应器图案及信号导线的制造方法,其中,该衬底平面式薄板,其材料选自于玻璃薄板或聚碳酸酯、聚脂、聚甲基丙烯酸甲酯或环烯烃共聚合物的一软性、硬性或可挠性的透明薄板材料。

3.如权利要求1所述的触控感应器图案及信号导线的制造方法,其中,第二导电性镀膜为一高透光率的导电性镀膜。

4.如权利要求1所述的触控感应器图案及信号导线的制造方法,其中,该高能光束为超短脉冲高斯光束或超短脉冲激光。

5.如权利要求1所述的触控感应器图案及信号导线的制造方法,其中,该绝缘性槽沟线的槽沟宽度在1-100μm范围。

6.如权利要求1所述的触控感应器图案及信号导线的制造方法,其中,前述感测区的预定图案是由多个信号感应单元排列组成的触控感应器图案,而该线路区的预定图案则为具有多个信号导线图案,且令所述信号导线可分别连接所述信号感应单元以便形成信号感应回路。

7.如权利要求1所述的触控感应器图案及信号导线的制造方法,其中,所述的黄光工艺包含以下步骤:

对该衬底涂布光刻胶:使用光刻胶涂布手段以便在该衬底的导电性镀膜表面上覆设一层光刻胶薄膜;

对该衬底进行预烤:提供60℃-90℃热风对该衬底上的光刻胶薄膜实施100-140秒的烘烤时程,然后徐徐降温至常温;

对该光刻胶薄膜进行曝光:提供照射能量150-250MJ/cm2的紫外线光源,以及将具有线路区图案化的掩膜设于该光刻胶薄膜与一光源间,与该光刻胶薄膜间保持间隙30μm-80μm的距离并曝光该光刻胶薄膜,以将在掩膜上的线路区图案转移到该光刻胶薄膜上;以及

对该光刻胶薄膜进行显影:以喷压0.5Kg/cm2的显影剂显影剂对该光刻胶薄膜喷洗,再以喷压0.5Kg/cm2的洗涤液对的喷洗,将不要的光刻胶材料部分去除;因此在该衬底线路区部位的导电性镀膜表面的上形成一层固化的光刻胶薄膜。

8.如权利要求7所述的触控感应器图案及信号导线的制造方法,其中,所述的光刻胶涂布手段为旋转涂布法、狭缝式涂布法或是毛细管涂布法的一种。

9.如权利要求1所述的触控感应器图案及信号导线的制造方法,其中,所述的蚀刻工艺包含以下步骤:

蚀刻移除在感测区内的第一导电性镀膜:以喷压0.6Kg/cm2的蚀刻剂喷洒至衬底,将未受光刻胶薄膜遮蔽的部分-亦即在感应区范围内的第一导电性镀膜进行蚀刻去除,然后再以喷压1.5Kg/cm2的洗涤对衬底施予清洗,因此使感测区内在下层的第二导电性镀膜上的图案裸露出来;以及

剥除在线路区内的光刻胶薄膜:以喷压0.6Kg/cm2的剥膜剂喷洒至该衬底上的光刻胶薄膜并将其剥离去除,再以喷压1.5Kg/cm2的洗涤液对该衬底表面施予清洗,因此使在线路区内的第一导电性镀膜上的图案裸露出来。

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