[发明专利]一种雷达波吸收和抗反射涂料的实现方法无效

专利信息
申请号: 201010577817.7 申请日: 2010-12-01
公开(公告)号: CN102311674A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 石郧熙 申请(专利权)人: 石郧熙
主分类号: C09D5/32 分类号: C09D5/32;C09D5/25
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430074 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 雷达 吸收 反射 涂料 实现 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于微波吸收涂料的技术领域,涉及一种抗雷达波在金属表面上反射的吸收涂料技术。将尺寸均匀的金属粒子和半导体粒子融入绝缘性的涂料中,制造出在宽波段和超薄的雷达波吸收系数α为100/cm数量级的包含金属粒子和半导体粒子的混合涂料,实现宽波段和薄膜(~0.3mm)型的涂料在金属表面上吸收雷达波,达到在金属表面抗雷达波反射的目的。 

背景技术:

国内公开发表的相关文章显示:大多数提高材料吸波能力的研究集中在研究制备成1~4mm厚的膜和测试表征其宏观特征。研究材料的相对复介电参数ε、相对复磁化率μ参数、和微波反射率等方面的性能。却往往忽略了当制备的薄膜材料的厚度达到1~4mm后,已经具备了波的干涉特性。波的干涉相消效应达到在对应波段的范围,薄膜材料具有低反射率。而基于材料与微波吸收的微观方面的研究报道,和材料本身的微波吸收系数频谱的报道则很少。 

目前,研究的材料多分为电阻型、电介质型和磁介质型三个类型。用各种材料的颗粒粉、片状、或各种纳米粉粒,并通过各种方法改变材料的宏观表征参数,达到所期望的结果,实现在特定波段内降低微波的反射率。特别是近年来,各种磁性材料的纳米粉的采用,混合方式,及其混合比的变化,提高了材料的性能,使得厚度在1~3mm的吸波材料膜层就能达到明显地降低放射率的效果。且在8G~14G的波段内,还得到一个明显的干涉型的抗反射峰(-30dB左右),进一步将干涉抗反射峰附近波段的反射率降到(-10~-15)dB左右,或更多一些。然而使用的这三个类型材料,电阻型、电介质型和磁介质型材料都有这样或那样的缺点: 

1.电阻型:碳化硅纤维、导电高聚物、石墨等。其导电率低,材料本身的反射率和吸收率都随之很小。优点:反射率小。缺点:作为涂覆层要求一定的厚度,才能抗反射。而这厚度在特定的应用中无法被接受。 

2.电介质型:钛酸钡钛酸钡和铁电陶瓷等介电材料之类。其导电率极低。有与电阻型材料相似的缺点 

3.磁介质型:铁磁性材料,有铁氧体、羰基铁、多晶铁纤维、磁性金属微粉、磁性金属纳米和空心微球镀磁性金属(镍)等。 

铁氧体系列缺点:密度大、高温特性差。文章《微波铁氧体吸收剂复磁导率和复介电常数的温度特性研究.功能材料,1994,25(2):169~171》表明,当温度由25℃至100℃变化时其吸收性能呈下降趋势。 

磁性金属微粉和纳米材料有制备上的严重缺陷:粉体分散性不好,易团聚,化学稳定性(如抗氧化、耐酸碱能力)差,与有机介质相容性差;和铁磁性物质的强吸附特性。当吸附的铁质或磁性介质颗粒尺寸超过5um时,则抗反射层会失效。这也是磁介质型材料的共同的缺陷。使用期间,吸附的铁质或磁性介质颗粒的去除,会大幅度的增加使用维护的时间和费用。 

还有,材料的磁性源于电子自旋波,是多体行为反映,尽管磁性材料的静磁化系数很高103-4,但其高频率响应的特性极差。当频率升高到微波段,其磁性材料的磁化系数会锐减。磁性材料的高频磁化系数往往小于10,只有5左右。 

在很多公开发表的磁性材料纳米粉涂层的各种研究报告中表明,厚度1-2mm的磁性材料纳米粉涂层,其反射谱表明涂层抗反射的特性。在很多的这些抗反射谱中,有一个干涉抗反射的锋,若改变涂层的厚度时,该抗反射锋的位置会移向低频波段,也就是反射率的降低不是主要源于材料吸收,而源于波的干涉相消作用。文章《四针状氧化锌晶须雷达吸波涂层的优化设计与机理分析》和《吸波剂含量和涂层厚度对微波吸收性能的影响》都很好的证明了这一点。在《四针状氧化锌晶须雷达吸波涂层的优化设计与机理分析》中的图2.6-2.9显示,材料的n值增加(材料的折射率n正比与ε和η乘积的平方根),干涉相消型的抗反射峰就向低频移动;和材料的厚度增加时,干涉相消型的抗反射峰向低频移动;材料的厚度增加一倍,则干涉型的抗反射峰移动到对应与二分之一的低频频率处。 

国外的研究以美国为主,F117之前未有“超黑粉”,之后研制出“超黑粉”,并已应用。将反射率降到1%左右。可以预见,在不远的将来,对于特定的波段,干涉相消型抗反射技术的采用能将反射率降到0.5%以下。我国科研工作者的大量科研结果和Sang-Hwan Cho,et.al.的文章《A Black Metal-dielectric Thin Film for High-contrast Displays,Journal of the Korean Physical Society,Vol.55,No.2,August 2009,pp.501 507》证实了这种技术的可行性。 

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