[发明专利]光刻机曝光方法有效
| 申请号： | 201010578044.4 | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102540731A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 曝光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光刻机曝光方法，用于扫描步进光刻机，其特征在于，包括以下步骤：
第一步、将狭缝状镜头沿光刻版载物台和圆片载物台的扫描方向倾斜一角度，使得通过狭缝状镜头投影到圆片上的光线的焦距是递变的；
第二步、扫描所述光刻版载物平台和所述圆片载物平台进行曝光。
2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，扫描所述圆片载物台和所述光刻版载物台时，所述圆片载物台和所述光刻版载物台始终保持平行。
3.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，曝光中狭缝状镜头垂直于扫描镜头的方向保持水平。
4.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述狭缝状镜头倾斜角度小于等于50微弧度。
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