[发明专利]光刻线宽测试校准方法有效
申请号: | 201010578112.7 | 申请日: | 2010-12-08 |
公开(公告)号: | CN102538723A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 黄玮 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | G01B15/00 | 分类号: | G01B15/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 测试 校准 方法 | ||
1.一种光刻线宽测试校准方法,其特征在于,包括以下步骤:
S100、光刻圆片曝光;
S101、将曝光后的圆片放置若干天;
S102、基准扫描电镜测试整片圆片所有点的线宽,并保存放入数据库中;
S103、日常校准,测试圆片上第一组测试点数据,并与所述数据库中数据比较,计算第一差值;
S104、判断所述第一差值是否在规范内,是否需要调整;若否,结束当前校准。
2.根据权利要求1所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,若S104的第一差值不在规范内,需要调整,则进行以下步骤:
S105,测试圆片上第二组测试点数据,并与数据库中数据比较,计算第二差值;
S106、判断所述第二差值是否与所述第一差值一致;若一致,则校准设备,并结束当前校准。
3.根据权利要求2所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,若所述第二差值与所述第一差值不一致时,则以第二差值为准,并结束当前校准。
4.根据权利要求2所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,若所述第二差值与所述第一差值一致,则在下次校准时使用所述第一组测试点。
5.根据权利要求3所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,若所述第二差值与所述第一差值不一致,则在下次校准时使用所述第二组测试点。
6.根据权利要求2至5中任意一项所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,所述第一组测试点和所述第二组测试点均是圆片上的3~5个测试点。
7.根据权利要求1所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,所述圆片在生产线环境放置至少7天。
8.根据权利要求1所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,每次校准都测试校准圆片上不同的测试点,使每个测试点只测试两次,一次为基准设备收集数据,一次为日常校准。
9.根据权利要求8所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,根据S104的第一差值,判断设备是否漂移。
10.根据权利要求1所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,基准扫描电镜收集圆片的原始数据,其测试点是管芯内的相同位置。
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