[发明专利]光刻线宽测试校准方法有效

专利信息
申请号: 201010578112.7 申请日: 2010-12-08
公开(公告)号: CN102538723A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 黄玮 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: G01B15/00 分类号: G01B15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光刻 测试 校准 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻线宽测试校准方法,其特征在于,包括以下步骤:

S100、光刻圆片曝光;

S101、将曝光后的圆片放置若干天;

S102、基准扫描电镜测试整片圆片所有点的线宽,并保存放入数据库中;

S103、日常校准,测试圆片上第一组测试点数据,并与所述数据库中数据比较,计算第一差值;

S104、判断所述第一差值是否在规范内,是否需要调整;若否,结束当前校准。

2.根据权利要求1所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,若S104的第一差值不在规范内,需要调整,则进行以下步骤:

S105,测试圆片上第二组测试点数据,并与数据库中数据比较,计算第二差值;

S106、判断所述第二差值是否与所述第一差值一致;若一致,则校准设备,并结束当前校准。

3.根据权利要求2所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,若所述第二差值与所述第一差值不一致时,则以第二差值为准,并结束当前校准。

4.根据权利要求2所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,若所述第二差值与所述第一差值一致,则在下次校准时使用所述第一组测试点。

5.根据权利要求3所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,若所述第二差值与所述第一差值不一致,则在下次校准时使用所述第二组测试点。

6.根据权利要求2至5中任意一项所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,所述第一组测试点和所述第二组测试点均是圆片上的3~5个测试点。

7.根据权利要求1所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,所述圆片在生产线环境放置至少7天。

8.根据权利要求1所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,每次校准都测试校准圆片上不同的测试点,使每个测试点只测试两次,一次为基准设备收集数据,一次为日常校准。

9.根据权利要求8所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,根据S104的第一差值,判断设备是否漂移。

10.根据权利要求1所述的光刻线宽测试校准方法,其特征在于,基准扫描电镜收集圆片的原始数据,其测试点是管芯内的相同位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡华润上华科技有限公司,未经无锡华润上华科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010578112.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top