[发明专利]净化间环境检测方法

权利要求书

1.一种净化间环境检测方法，至少包括如下步骤：提供一化学放大光刻胶；然后，对所述化学放大光刻胶进行曝光及曝光后烘烤；待所述化学放大光刻胶上因曝光而产生的光酸与净化间内空气接触后，在所述化学放大光刻胶上形成T型结构；然后，再对所述T型结构进行数据测定。

2.如权利要求1所述的净化间环境检测方法，其特征在于：所述T型结构形成于所述化学放大光刻胶上被曝光的部分。

3.如权利要求2中所述的净化间环境检测方法，其特征在于：对所述T型结构的数据测定包括测定其顶部宽度和底部宽度并计算出两者的差值，所述差值与所述净化间内空气杂质浓度成正比。

4.如权利要求2中所述的净化间环境检测方法，其特征在于：曝光时将聚焦位置设置于所述化学放大光刻胶表面偏下的位置，待从扫描电镜中观察到光刻胶两侧的白边随T型结构的形成而变窄或消失时，再测定白边的宽度来判断净化间内空气杂质浓度。