[发明专利]8英寸轻掺硅抛光片的抛光工艺有效

专利信息
申请号: 201010581243.0 申请日: 2010-12-10
公开(公告)号: CN102019582A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 李翔;刘振福;李科技;武卫;张宇 申请(专利权)人: 天津中环领先材料技术有限公司
主分类号: B24B39/06 分类号: B24B39/06;H01L21/304
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 王凤英
地址: 300384 天津市南开区滨*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 英寸 轻掺硅 抛光 工艺
【权利要求书】:

1.一种8英寸轻掺硅抛光片的抛光工艺,其特征在于:对8英寸轻掺硅抛光片进行两次粗抛光、一次中抛光、一次精抛光,共四次抛光过程;每次抛光过程分为四个阶段,其工艺步骤如下:

(1)、粗抛光加工:采用粗抛机进行两次粗抛光,每次粗抛光四个阶段中每个阶段的抛光压力在1.5~2.2bar范围内进行调整设定,每次粗抛光四个阶段的总抛光时间在8~11min范围内进行调整设定;

(2)、中抛光加工:采用中抛机进行一次中抛光,中抛光四个阶段中每个阶段的抛光压力在1.2~2.0bar范围内进行调整设定,中抛光四个阶段的总抛光时间在7~10min范围内进行调整设定;

(3)、精抛光加工:采用精抛机进行一次精抛光,精抛光四个阶段中每个阶段的抛光压力在0.5~1bar范围内进行调整设定,精抛光四个阶段的总抛光时间在7~10min范围内进行调整设定。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津中环领先材料技术有限公司,未经天津中环领先材料技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010581243.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top