[发明专利]一种变频微波炉用高压二极管及其生产工艺无效
申请号: | 201010581249.8 | 申请日: | 2010-12-10 |
公开(公告)号: | CN102064107A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 王军明;刘长蔚;牛宝钢;崔俊发;谷月清;梁效峰;范玉丰;宋进虎 | 申请(专利权)人: | 天津中环半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/329 | 分类号: | H01L21/329;H01L29/861;H01L25/07 |
代理公司: | 天津中环专利商标代理有限公司 12105 | 代理人: | 莫琪 |
地址: | 300384 天津市南开区新技*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 变频 微波炉 高压 二极管 及其 生产工艺 | ||
技术领域
本发明涉及晶体二极管芯片生产技术领域, 特别涉及一种变频微波炉用高压二极管及其生产工艺,由变频方式驱动磁控管,使微波炉的输出功率能实现连续可调,利用变化频率来控制输出功率的强弱,使微波炉的火力可调控。
背景技术
目前微波炉使用的高压二极管是工频高压二极管。现有技术存在问题包括:1)、工频高压二极管抗浪涌能力差。2)、工频高压二极管开关损耗大。3)、产品功耗大、温升快。
发明内容
本发明的目的就是为克服现有技术的不足,设计一种变频微波炉用高压二极管及其生产工艺、结构,提高了高压二极管的抗浪涌能力、降低了开关损耗及功耗,降低了温升,适用于变频微波炉的高频率变化的使用,使火力加热变得均匀。
本发明是通过这样的技术方案实现的:
一种变频微波炉用高压二极管的生产工艺,其特征在于:
1)扩散前处理:通过酸、碱、去离子水等多道工序,对硅片表面进行化学处理;
2)磷硼扩散:清洗干净的原始硅片,在1200~1250℃扩散炉中恒温扩散;
3)扩散后处理:用酸、去离子水超声清洗,使硅片分离并去除氧化膜;
4)扩散检验:测试扩散后硅片的方块电阻、结深、反向恢复时间;
5)铂扩散:扩入金属铂,减小反向恢复时间,提高频率;
6)喷砂:用金刚砂对硅片表面进行均匀的粗面化;
7)镀镍、镀金:将喷砂后的硅片去砂、清洗、在专用镀槽中进行镀镍、镀金,干燥;
8)合金:将镀镍后的硅片,铅锡焊片,按顺序装入模具,放进200~250℃的烧结炉中进行烧结合金;
9) 切断:用切断机将合金后的硅块切割成所需大小的管芯;
10)中测:用正向测试仪测试管芯正向压降;
11) 腐蚀:将测试后的管芯进行酸腐蚀;
12)组装:将腐蚀后的管芯、引线装入模具,放进200~250℃的烧结炉中进行烧结;
13)清洗:组装后的管芯装入清洗模具进行清洗;
14)钝化保护:将组装后的管芯清洗干净后,涂保护胶并固化;
15)封装:将固化后的管芯装入塑封模具封装;
16)后固化:将塑封后的高压二极管放入烘箱进行后固化,后固化温度100~150℃ 。
根据所述方法获得变频微波炉用高压二极管其结构特征为:P型硅片和多枚二极管方向相同叠放在一起,即P型片+P+NN+…P+NN+…P+NN++P型片。
本发明的变频微波炉用高压二极管及其制造方法,采用磷硼扩散、合金、切割、组装、钝化、封装等工艺,采用液态磷源深结扩散的两次扩散的方法,降低正向压降,减小高压二极管的功耗;采用金属铂扩散的方法减小反向恢复时间,降低开关损耗;采用增大芯片面积的方法,提高变频微波炉用高压二极管的可靠性;本发明的提高了变频微波炉用高压二极管的耐压能力、抗浪涌能力,降低了开关损耗和功耗,提高了可靠性,使变频微波炉的火力均匀调控而不被毁坏,保证了微波炉的可靠性和使用寿命。
附图说明
图1为变频微波炉用高压二极管结构示意图;
图2为变频微波炉用高压二极管生产工艺流程图 。
图中:1.镀银引线,2.结保护胶,3.塑封料,4.焊料,5.硅片,6.P型片
具体实施方式
如图1、图2所示本发明的变频微波炉用高压二极管制造技术如下:
(1)、结构:多枚二极管方向相同叠放在一起P+NN+…N+NP+…,两端加P型片。
(2)、工艺流程:
1)扩散前处理:通过酸、碱、去离子水等多道工序,对硅片表面进行化学处理。
2)磷硼扩散:清洗干净的原始硅片,在1200~1250℃扩散炉中恒温扩散。
3)扩散后处理:用酸、去离子水超声清洗,使硅片分离并去除氧化膜;
4)扩散检验:测试扩散后硅片的方块电阻、结深、反向恢复时间。
5)铂扩散:扩入金属铂,减小反向恢复时间,提高频率。
6)喷砂:用金刚砂对硅片表面进行均匀的粗面化。
7)镀镍、镀金:将喷砂后的硅片去砂、清洗、在专用镀槽中进行镀镍、镀金、干燥。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造