[发明专利]一种变频微波炉用高压二极管及其生产工艺无效

专利信息
申请号: 201010581249.8 申请日: 2010-12-10
公开(公告)号: CN102064107A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 王军明;刘长蔚;牛宝钢;崔俊发;谷月清;梁效峰;范玉丰;宋进虎 申请(专利权)人: 天津中环半导体股份有限公司
主分类号: H01L21/329 分类号: H01L21/329;H01L29/861;H01L25/07
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 莫琪
地址: 300384 天津市南开区新技*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 变频 微波炉 高压 二极管 及其 生产工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及晶体二极管芯片生产技术领域, 特别涉及一种变频微波炉用高压二极管及其生产工艺,由变频方式驱动磁控管,使微波炉的输出功率能实现连续可调,利用变化频率来控制输出功率的强弱,使微波炉的火力可调控。

背景技术

目前微波炉使用的高压二极管是工频高压二极管。现有技术存在问题包括:1)、工频高压二极管抗浪涌能力差。2)、工频高压二极管开关损耗大。3)、产品功耗大、温升快。

发明内容

本发明的目的就是为克服现有技术的不足,设计一种变频微波炉用高压二极管及其生产工艺、结构,提高了高压二极管的抗浪涌能力、降低了开关损耗及功耗,降低了温升,适用于变频微波炉的高频率变化的使用,使火力加热变得均匀。

本发明是通过这样的技术方案实现的:

   一种变频微波炉用高压二极管的生产工艺,其特征在于:

1)扩散前处理:通过酸、碱、去离子水等多道工序,对硅片表面进行化学处理;

2)磷硼扩散:清洗干净的原始硅片,在1200~1250℃扩散炉中恒温扩散;

3)扩散后处理:用酸、去离子水超声清洗,使硅片分离并去除氧化膜;

4)扩散检验:测试扩散后硅片的方块电阻、结深、反向恢复时间;

5)铂扩散:扩入金属铂,减小反向恢复时间,提高频率;

6)喷砂:用金刚砂对硅片表面进行均匀的粗面化;

7)镀镍、镀金:将喷砂后的硅片去砂、清洗、在专用镀槽中进行镀镍、镀金,干燥;

8)合金:将镀镍后的硅片,铅锡焊片,按顺序装入模具,放进200~250℃的烧结炉中进行烧结合金;

9) 切断:用切断机将合金后的硅块切割成所需大小的管芯;

10)中测:用正向测试仪测试管芯正向压降;

11) 腐蚀:将测试后的管芯进行酸腐蚀;

12)组装:将腐蚀后的管芯、引线装入模具,放进200~250℃的烧结炉中进行烧结;

13)清洗:组装后的管芯装入清洗模具进行清洗;

14)钝化保护:将组装后的管芯清洗干净后,涂保护胶并固化;

15)封装:将固化后的管芯装入塑封模具封装;

16)后固化:将塑封后的高压二极管放入烘箱进行后固化,后固化温度100~150℃ 。  

    根据所述方法获得变频微波炉用高压二极管其结构特征为:P型硅片和多枚二极管方向相同叠放在一起,即P型片+P+NN+…P+NN+…P+NN++P型片。

    本发明的变频微波炉用高压二极管及其制造方法,采用磷硼扩散、合金、切割、组装、钝化、封装等工艺,采用液态磷源深结扩散的两次扩散的方法,降低正向压降,减小高压二极管的功耗;采用金属铂扩散的方法减小反向恢复时间,降低开关损耗;采用增大芯片面积的方法,提高变频微波炉用高压二极管的可靠性;本发明的提高了变频微波炉用高压二极管的耐压能力、抗浪涌能力,降低了开关损耗和功耗,提高了可靠性,使变频微波炉的火力均匀调控而不被毁坏,保证了微波炉的可靠性和使用寿命。

附图说明

    图1为变频微波炉用高压二极管结构示意图;

    图2为变频微波炉用高压二极管生产工艺流程图 。

    图中:1.镀银引线,2.结保护胶,3.塑封料,4.焊料,5.硅片,6.P型片

具体实施方式

    如图1、图2所示本发明的变频微波炉用高压二极管制造技术如下:

(1)、结构:多枚二极管方向相同叠放在一起P+NN+…N+NP+…,两端加P型片。

(2)、工艺流程:

1)扩散前处理:通过酸、碱、去离子水等多道工序,对硅片表面进行化学处理。

2)磷硼扩散:清洗干净的原始硅片,在1200~1250℃扩散炉中恒温扩散。

3)扩散后处理:用酸、去离子水超声清洗,使硅片分离并去除氧化膜;

4)扩散检验:测试扩散后硅片的方块电阻、结深、反向恢复时间。

5)铂扩散:扩入金属铂,减小反向恢复时间,提高频率。

6)喷砂:用金刚砂对硅片表面进行均匀的粗面化。

7)镀镍、镀金:将喷砂后的硅片去砂、清洗、在专用镀槽中进行镀镍、镀金、干燥。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津中环半导体股份有限公司,未经天津中环半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010581249.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top