[发明专利]含有重氮感光树脂的热敏无水胶印版及其制备方法无效
申请号: | 201010581476.0 | 申请日: | 2010-12-06 |
公开(公告)号: | CN102081306A | 公开(公告)日: | 2011-06-01 |
发明(设计)人: | 邹应全;汪建国 | 申请(专利权)人: | 北京师范大学;泰兴市东方实业公司 |
主分类号: | G03F7/09 | 分类号: | G03F7/09;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/021;C09D183/07;C09D183/04 |
代理公司: | 北京太兆天元知识产权代理有限责任公司 11108 | 代理人: | 张韬 |
地址: | 100875 北京市新*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 感光 树脂 热敏 无水 胶印 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于印刷制版技术领域,特别涉及一种由铝版基、含有重氮感光树脂的感光层和斥墨硅橡胶层构成的热敏无水胶印版。
背景技术
无水胶印是一种平凹版印刷技术,它不使用水,不用传统的润版液,而是采用有不亲油墨的硅胶橡胶表面的印版、特殊油墨和一套控温系统。与传统胶印技术相比,无水胶印有优异的印刷效果、高效的印刷效率及环保等优点。
在西方国家及日本,无水胶印已广泛应用于各个印刷领域。据统计,在日本,有15%的单张纸四色印刷机都采用无水印刷方式,20世纪90年代,无水胶印技术在美国市场也大获成功,截止到2005年,全球出现1000多家无水胶印企业,但由于制版工艺、油墨技术的薄弱和需要特殊的控温装置,使得此技术的进一步发展和普及都受到了阻碍。
近年来,随着电脑技术、油墨工艺的发展,无水胶印技术取得一些进步,无水胶印的版材、油墨及印刷设备都得到了相应的发展,美国、日本、德国、瑞士都快速发展、普及了无水胶印,并取得了可观的经济效益。随着印刷业不断追求产品的高品质、高精度的趋势,传统印刷的水墨平衡控制变得越来越困难,无水胶印是现在和未来胶印的潮流,无水胶印将会部分取代传统胶印技术。
在国内,无水胶印技术正在逐渐地被人们所接受,已有很多企业购买进口无水胶印机或对原有胶印设备进行结构调整实现了无水胶印。由于无水胶印的印刷质量高,尤其适合印刷精美画册、精美包装等高档印刷品,能满足了市场的需求,所以都还取得了良好的经济效益。但国内无水胶印技术水平落后,所有的无水胶印版及大部分油墨都依靠进口,价格很高,很难普及,所以国内开发研究性能优良的无水胶印版材成为印刷版材制造业关注的焦点。
发明内容
本发明目的是提供一种含有重氮感光树脂的热敏无水胶印版的制备方法。
本发明制备的含有重氮树脂的热敏型无水胶印版由版基、感光层和斥墨的硅橡胶层组成;版基由铝版带材进行清洗、中和、电解和氧化后获得,版基表面为三氧化二铝亲水层,粗糙度Ra为0.40-0.65,为不封孔版基;感光层为感光涂布液在版基表面形成的厚度为0.9-1.3g/m2的感光薄膜,硅橡胶层为硅橡胶涂布液在感光层表面形成的厚度为2.7-3.0g/m2的硅橡胶薄膜。
本发明的具体制备方法如下:
A.版基的制备:在60-70℃条件下,用4-8wt%氢氧化钠溶液将铝版带材清洗40-100秒,用硫酸或盐酸中和至pH为5-6,再用去离子水洗;然后对版面进行电化学处理,即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路,获得表面粗糙度Ra为0.40-0.65的多孔表面;粗化后的版面再经4-8wt%氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理,生成三氧化二铝亲水层,水洗、烘干,得到可以用于热敏无水胶印版生产的版基,该版基为不封孔版基;
B.将感光涂布液通过一次旋转式涂布到步骤A制备的版基上,50-120℃烘干2-8分钟形成厚度为0.9-1.3g/m2的感光薄膜,即为感光层;
C.将硅橡胶涂布液通过一次旋转式涂布到上述的感光层上,80-150℃烘干1-6分钟形成厚度为2.7-3.0g/m2的硅橡胶薄膜,即获得含有重氮感光树脂的热敏无水胶印版。
所述铝版带材是型号为1050的纯铝。
所述的感光涂布液由10-15重量份的成膜树脂、8-13重量份的重氮感光树脂、0.1-1重量份的着色背景染料、0.2-1重量份的红外染料、2-5重量份的添加剂在300-400重量份的有机溶剂中溶解形成。
所述的成膜树脂为不溶于水的聚合物,具体为环氧树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂中的一种或几种;
所述的重氮感光树脂是含有机磺酸阴离子的二苯胺重氮硫酸盐与多聚甲醛或4,4’-双甲氧基甲基二苯基醚的缩聚物;二苯胺重氮硫酸盐包括二苯胺-4-重氮硫酸盐、3-甲氧基二苯胺-4-重氮硫酸盐、N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮硫酸盐;所述的重氮感光树脂具体结构如图所示:
式中R为有机磺酸阴离子或含磷酸阴离子,具体为六氟磷酸根、十二烷基苯磺酸根、十二烷基磺酸根、对甲苯磺酸根、均三甲苯磺酸根或萘磺酸根阴离子;X为甲氧基或甲基;Y为硝基或甲基;式中Z为烷基,具体为甲基或乙基;6≥n≥2,且为整数;
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