[发明专利]等离子体工艺视窗元件与等离子体设备的工艺观测装置

权利要求书

1.一种等离子体制作工艺视窗元件，包括：

第一基材部分，具有第一通孔；

第二基材部分，具有第二通孔与第二通孔扩散空间，该第二通孔扩散空间的截面积大于该第二通孔的截面积；以及

连接部分，介于该第一基材部分与该第二基材部分之间。

2.如权利要求1所述的等离子体制作工艺视窗元件，其中该等离子体制作工艺视窗元件设置在一等离子体设备的一反应腔体与一视窗玻璃之间，该第二通孔扩散空间邻近该视窗玻璃，该第一通孔邻近该反应腔体。

3.如权利要求2所述的等离子体制作工艺视窗元件，其中该等离子体设备包括等离子体辅助化学气相沉积设备。

4.如权利要求2所述的等离子体制作工艺视窗元件，还包括网状元件，其具有观测孔，该网状元件设置在该第二通孔扩散空间与该视窗玻璃之间。

5.如权利要求2所述的等离子体制作工艺视窗元件，其中该第二通孔扩散空间的截面积由该第二通孔往该视窗玻璃的方向逐渐变大。

6.如权利要求1所述的等离子体制作工艺视窗元件，其中该连接部分包括第三基材部分与开口，该开口邻接该第三基材部分。

7.如权利要求1所述的等离子体制作工艺视窗元件，其中该第一基材部分、该第二基材部分与该连接部分是一体成形的，且该连接部分内具有第一通孔扩散空间，该第一通孔扩散空间的截面积大于该第一通孔与该第二通孔。

8.一种等离子体设备的制作工艺观测装置，包括：

视窗元件，包括：

第一基材部分，具有第一通孔；

第二基材部分，具有第二通孔与第二通孔扩散空间，该第二通孔扩散空间的截面积大于该第二通孔的截面积，且该第一通孔、该第二通孔与该第二通孔扩散空间相互连通而形成一观测路径；以及

连接部分，介于该第一基材部分与该第二基材部分之间；以及

视窗玻璃，

其中该视窗元件设置在一等离子体设备的一反应腔体与该视窗玻璃之间，该第二通孔扩散空间邻近该视窗玻璃，该第一通孔邻近该反应腔体。

9.如权利要求8所述的等离子体设备的制作工艺观测装置，其中该等离子体设备包括等离子体辅助化学气相沉积设备。

10.如权利要求8所述的等离子体设备的制作工艺观测装置，还包括网状元件，其具有观测孔，该网状元件设置在该第第二通孔扩散空间与该视窗玻璃之间。

11.如权利要求8所述的等离子体设备的制作工艺观测装置，其中该第二通孔扩散空间的截面积由该第二通孔往该视窗玻璃的方向逐渐变大。

12.如权利要求8所述的等离子体设备的制作工艺观测装置，其中该连接部分包括第三基材部分与开口，该开口邻接该第三基材部分。

13.如权利要求12所述的等离子体设备的制作工艺观测装置，其中该视窗元件设置在该等离子体设备的腔壁中，且该连接部分的该开口与该腔壁之间形成一第一通孔扩散空间，其中，该第一通孔扩散空间的截面积大于该第一通孔与该第二通孔的截面积，且与该第一通孔、该第二通孔以及该第二通孔扩散空间相互连通而形成一观测路径。

14.如权利要求12所述的等离子体设备的制作工艺观测装置，还包括中空转接元件，其中该视窗元件通过该中空转接元件接设于该等离子体设备的腔壁中，且该连接部分的该开口与该中空转接元件之间形成一第一通孔扩散空间，该第一通孔扩散空间的截面积大于该第一通孔与该第二通孔的截面积，且与该第一通孔、该第二通孔以及该第二通孔扩散空间相互连通而形成一观测路径。

15.如权利要求8所述的等离子体设备的制作工艺观测装置，其中该第一基材部分、该第二基材部分与该连接部分是一体成形的。

16.一种等离子体制作工艺视窗元件，包括：

第一基材部分，具有第一通孔与第一通孔扩散空间，该第一通孔扩散空间的截面积大于该第一通孔的截面积；以及

第二基材部分，具有第二通孔与第二通孔扩散空间，该第二通孔的截面积小于该第一通孔扩散空间的截面积；第二通孔扩散空间的截面积大于该第二通孔的截面积，且该第一通孔、该第一通孔扩散空间、该第二通孔与该第二通孔扩散空间相互连通而形成一观测路径者；

其中该等离子体制作工艺视窗元件设置在一等离子体设备的一反应腔体与一视窗玻璃之间，该第二通孔扩散空间邻近该视窗玻璃，该第一通孔邻近该反应腔体。