[发明专利]补偿电机不均匀空气间隙的结构有效

专利信息
申请号: 201010583733.4 申请日: 2010-12-08
公开(公告)号: CN102088212A 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: H·斯蒂斯达尔 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: H02K1/06 分类号: H02K1/06;H02K1/12;H02K1/18;H02K1/22
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 薛峰
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 补偿 电机 不均匀 空气 间隙 结构
【权利要求书】:

1.一种补偿电机(102)中不均匀空气间隙(119)的结构,

-其中所述电机包含定子结构(108)和转子结构(114),

-其中所述转子结构(114)绕纵向轴线(A)旋转,

-其中至少所述转子结构的部件(118)与所述定子结构的部件(111)相互作用,以产生电功率,

-其中所述空气间隙由所述转子结构的部分与所述定子结构的部分之间的距离限定,

-其中所述定子结构的部分沿一定长度与所述转子结构的部分相对,

-其中所述空气间隙的横截面沿这一长度变化,因此所述空气间隙相对于所提及的一定长度而言是不均匀的,

-其中所述转子结构包含多个磁体,而且

-其中所述空气间隙中的磁通密度根据所述空气间隙的横截面而变化。

2.根据权利要求1所述的结构,其中所述磁体是永磁体(118)。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的结构,其中所述磁通密度因如下因素而变化

-磁体尺寸相对于所述空气间隙的变化,和/或

-磁体高度相对于所述空气间隙的变化,和/或

-所述磁体相对于所述空气间隙的强度或磁场强度的变化。

4.根据权利要求2或权利要求3所述的结构,其中磁体类型沿不均匀空气间隙变化,以根据所述空气间隙的横截面来调整磁体的磁场强度或磁通密度。

5.根据权利要求2所述的结构,其中

-所述磁体(118)的尺寸或高度(H11,H21)沿所述不均匀空气间隙(119)变化,

-所述空气间隙(119)在第一侧(81)上表现出第一宽度(W1),在第二侧(82)上表现出第二宽度(W21),

-所述磁体(118)在所述第一侧(81)处表现出相对于所述第一宽度(W1)的第一高度(H11),

-所述磁体(118)在所述第二侧(82)处表现出相对于所述第二宽度(W2)的第二高度(H21),而且所述第一高度(H11)低于所述第二高度(H21)。

6.根据权利要求5所述的结构,其中

-所述磁体(118)被布置在基底(BM)上,以平衡所述磁体与所述空气间隙(119)有关的不同高度(H11,H21),和

-接近所述空气间隙(119)的第一侧(81)的所述磁体(118)的基底(BM)低于接近所述空气间隙(119)的第二侧(82)的所述磁体(118)的基底(BM)。

7.根据权利要求1所述的结构,其中电线圈被用作所述转子结构旁的磁体。

8.根据权利要求1所述的结构,其中

-所述定子结构(108)包含叠层堆(110),其被构造成支持定子线圈的至少一个绕组(111),和-所述转子结构(114)包含多个永磁体(118)。

9.根据权利要求1所述的结构,其中所述定子结构(108)和所述转子结构(114)经由单一主轴承(120-123)连接。

10.根据权利要求1-9之一所述的结构,其中

-所述定子结构(108)包括定子支持结构(109)和叠层堆(110),

-将所述叠层堆(110)被构造成支持所述定子线圈的绕组(111),

-所述定子支持结构(109)包括两个支持件(112),用于所述叠层堆(110)的双侧支持,

-所述支持件(112)是环状的,

-所述支持件(112)经由所述单一主轴承(120-123)连接到所述转子结构(104),

-所述环状支持件(112)的外端被附连到中空圆柱形支持件(113),而且

-所述中空圆柱形支持件(113)承载着所述环状叠层堆(110)和所述绕组(111)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子公司,未经西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010583733.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top