[发明专利]大视场大工作距投影光刻物镜

权利要求书

1.一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：

具有正光焦度的第一透镜组G11；

具有负光焦度的第二透镜组G12；

具有正光焦度的第三透镜组G13；

具有负光焦度的第四透镜组G14；以及

具有正光焦度的第五透镜组G15；

其中，所述各透镜组G11、G12、G13、G14、G15满足以下关系：

0.52＜|f_G11/f_G13|＜0.85      (1)

0.50＜|f_G12/f_G14|＜0.85      (2)

0.19＜|f_G13/L|＜0.33         (3)

其中：f_G11：第一透镜组G11的焦距；f_G12：第二透镜组G12的焦距；f_G13：第三透镜组G13的焦距；f_G14：第四透镜组G14的焦距；L：从物面到像面的距离。

2.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于所述第一透镜组G11由至少三片透镜构成，所述第一透镜组G11包含一子透镜组G11-1n，所述子透镜组G11-1n光焦度为正，包含所述第一透镜组G11的两个透镜；

所述第二透镜组G12由至少三片透镜构成；

所述第三透镜组G13由至少五片透镜构成，所述第三透镜组G13包含一子透镜组G13-1n，所述子透镜组G13-1n光焦度为正，包含所述第三透镜组G13的两个透镜；

所述第四透镜组G14由至少四片透镜构成；

所述第五透镜组G14由至少三片透镜构成；

其中，所述各透镜组与子透镜组之间满足以下关系式：

1.3＜|f_G11-1n/f_G11|＜2.1    (4)

0.5＜|f_G12-1n/f_G12|＜0.95   (5)

其中：f_G11-1n：第一透镜组G11的子透镜组G11-1n的焦距；f_G12-1n：第二透镜组G12的子透镜组G12-1n的焦距。

3.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于所述靠近物面的第一透镜(11)为凹面面向物面的弯月式的正透镜，靠近像面的最后一片透镜(28)为凹面弯向像面的弯月式正透镜。

4.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于所述第二透镜组G12内至少包含一对凹面相对透镜，所述第四透镜组G14内至少包含两对凹面相对透镜。

5.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述投影物镜由至少两种高折射率材料与至少两种低折射率材料构成。

6.根据权利要求5所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述高折射率材料是指I线折射率大于1.55的材料，包括I线折射率大于1.55且阿贝数小于45的第一种材料，以及I线折射率大于1.55且阿贝数大于50的第二种材料；所述低折射率材料是指I线折射率小于1.55的材料，包括I线折射率小于1.55且阿贝数小于55的第三种材料，以及I线折射率小于1.55且阿贝数大于60的第四种材料。

7.根据权利要求6所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第一、二、三、四、五透镜组都至少包含一片镜片由第一或第二种材料构成。

8.根据权利要求6所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第一、三、五透镜组包含至少一片镜片由第一种材料构成；所述第二、四透镜组包含至少一片镜片由第二种材料构成。

9.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于，物方工作距离及像方工作距离均大于100mm。