[发明专利]曝光头及其制造方法、盒以及图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201010586205.4 申请日: 2010-12-08
公开(公告)号: CN102213929A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 西野洋平;米山博人;松村贵志;山口义纪;真下清和;佐藤克洋 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03G15/04 分类号: G03G15/04;G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;汤俏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 曝光 及其 制造 方法 以及 图像 形成 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及曝光头及其制造方法、盒以及图像形成装置。

背景技术

例如,在电子照相装置等的曝光装置中,已经研究了具有发光器件作为光源的曝光头。

例如,日本特开(JP-A)2006-289843号公报公开了“一种LED打印头,其具有安装有多个发光器件的基板、所述基板设置于其上的基底、固定到所述基底的盖、以及固定到上述盖上的与所述发光器件相对的位置的透镜阵列,其特征在于,所述基底是这样的:多边形金属棒和所述基板由树脂一体模制,并且该金属棒的任何棱线都与所述基板的背面相对”。

此外,日本特开平11-1018号公报公开了这样的曝光头:通过梯度折射率透镜(gradient index lens)(称为Selfocs透镜)的透镜阵列进行曝光。

发明内容

本发明的目的在于提供一种曝光头,使得与成像单元的入射面和发光单元之间存在空气层的情况相比增加了光量。

该问题是通过以下手段解决的。即

<1>一种曝光头,该曝光头包括:

发光单元;

成像单元,该成像单元允许来自所述发光单元的光通过入射面入射并且从出射面出射,由此在预定位置成像;以及

透明层,该透明层设置在所述发光单元和所述成像单元之间,并且与所述发光单元和所述成像单元中的每一个接触;

所述透明层具有的厚度使得所述发光单元和所述成像单元的所述入射面之间的光学距离为所述成像单元的工作距离。

<2>根据<1>所述的曝光头,其中,所述透明层是与所述发光单元一体设置、并且接触所述成像单元的透明基板,并且

所述透明基板具有的厚度使得所述发光单元和所述成像单元的所述入射面之间的光学距离为所述成像单元的工作距离。

<3>根据<1>所述的曝光头,其中,所述透明层是与所述发光单元一体设置、并且接触所述成像单元的透明基板,

所述曝光头还包括第二透明层,该第二透明层设置在所述透明基板和所述成像单元之间,并且接触所述透明基板和所述成像单元中的每一个,并且

对于所述第二透明层和所述透明基板的总厚度,所述第二透明层具有的厚度使得所述发光单元和所述成像单元的所述入射面之间的光学距离为所述成像单元的工作距离。

<4>根据<1>至<3>中的任一项所述的曝光头,其中,所述成像单元包括Selfoc透镜阵列。

<5>一种包括根据<1>至<4>中的任一项所述的曝光头的盒,该盒以能够移除的方式安装到图像形成装置。

<6>一种图像形成装置,该图像形成装置包括:

潜像保持部件,该潜像保持部件保持潜像;

<1>至<4>中的任一项所述的曝光头,该曝光头在所述潜像保持部件上照射光而形成潜像;以及

显影装置,该显影装置对由曝光头形成的潜像进行显影。

<7>一种曝光头的制造方法,该制造方法包括以下步骤:

提供发光单元;

提供成像单元,该成像单元允许来自所述发光单元的光通过入射面入射并且从出射面出射,由此在预定位置成像;

在所述成像单元与所述发光单元相对的状态下,在所述成像单元的所述入射面和所述发光单元之间的区域的至少一部分中填充透明的可固化树脂;

将所述发光单元和所述成像单元的所述入射面之间的距离调整为所述成像单元的工作距离;以及

固化所述可固化树脂以形成透明层。

<8>根据<7>所述的制造方法,该制造方法还包括以下步骤:

提供与所述发光单元一体设置的透明基板,

其中,在所述成像单元与所述基板对置而使得所述基板介于所述发光单元和所述成像单元之间的状态下,在所述成像单元的所述入射面和所述基板之间的区域的至少一部分中填充所述透明的可固化树脂。

根据<1>至<4>的实施方式,可以提供一种曝光头,使其与空气层介于成像单元的入射面和发光单元之间的情况相比增加了光量。

根据<5>或<6>的实施方式,可以提供一种盒和图像形成装置,使其与应用空气层介于成像单元的入射面和发光单元之间的曝光头的情况相比,旨在实现输出的加速。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社,未经富士施乐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010586205.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top