[发明专利]用于对熔融玻璃的自由表面上方的气氛进行控制的设备有效
申请号: | 201010588074.3 | 申请日: | 2010-11-29 |
公开(公告)号: | CN102180586A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | G·D·安吉里斯;K·S·瑞戈尔 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03B17/06 | 分类号: | C03B17/06;C03B18/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 茅翊忞 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 熔融 玻璃 自由 表面 上方 气氛 进行 控制 设备 | ||
技术领域
本发明涉及用于对熔融玻璃的自由表面处和上方的气氛进行控制的设备,具体地说,对于存在于由铂系材料制成的腔室中的熔融玻璃的自由表面处和上方的气氛进行控制。
背景技术
通过各种本领域已知技术来生产玻璃板,这些技术包括浮动工艺和下拉工艺,例如还被称为熔融工艺的溢流式下拉工艺。在所有这些工艺中,流动的熔融玻璃形成为连续的玻璃带,该玻璃带分为各个玻璃板。
对于具有高熔融温度的玻璃来说,例如那些用于生产LCD或其它的显示器基板的玻璃来说,熔融设备、精炼设备、搅拌设备、调节设备、输送设备和成形设备中的至少一些设备由包括铂系金属的材料制成,而铂和铂合金,例如铂-铑合金是最常用的材料。作为在此使用的铂系金属包括铂、铑、钯、铱、铼、钌和锇。
由于使用铂系金属而存在的含铂缺陷,已成为生产LCD玻璃基板中长期存在的问题。共同受让的US公开专利申请2009/0217708(此后为‘708申请)讨论铂系金属缺陷的一个来源,即在制造工艺中、在玻璃的自由表面的位置处,例如铂的铂系金属的凝结物的形成。‘708申请还讨论一种减少凝结物基、铂系缺陷的数量的方式,该方式包括在熔融玻璃的自由表面处和上方,形成基本隔离/控制的、限制容积的、充有气体的空间(此后简称为“限制容积的控制气氛”)。然而,存有熔融玻璃的自由表面的腔室还可容纳在囊中,该囊具有其自身的控制环境,从而减少由于渗过含铂壁的氢而引起的玻璃板中夹附气体的产生。此外,用于减少铂缺陷的环境的特征并不与用于减少氢渗入的环境的特征相同。因此,限制容积的控制气氛与囊的气氛隔开,且与囊的气氛包括不同的组成物。‘708申请还讨论用于形成限制容积的控制气氛的装置,即用于使限制容积的空气气氛与囊的气氛隔开的装置。
发明内容
本申请建立在‘708申请中的装置的基础上。也就是说,本申请的设备还使限制容积的控制气氛与囊的气氛隔开,然后包括便于对腔室和/或设备本身进行维护/维修的结构和功能,熔融玻璃的自由表面存在于腔室中,而该设备用于形成限制容积的控制气氛。此外,本申请的设备在便于上述维护和/或维修的同时,还使总设备环境对于限制容积的控制气氛的干扰最小,总设备环境即囊外、但存在于如下设施中的环境:该设施容纳保持具有自由表面的熔融玻璃的囊和/或腔室。设备的各种方面或那些方面的组合可引起上述和其它优点。一些方面包括,例如:设备的设计、尺寸和设备相对于与腔室相关联的装置的比例;设备本身的分段性质;保持设备的各种服务连接的结构和/或保持具有自由表面的熔融玻璃的腔室;以及风箱,该风箱用于使腔室能在保持其功能的同时,即使在腔室经受热(或其它)引起的尺寸变化的情形下,仍包含限制容积的控制气氛,
以下将详细阐述附加特征和优点,而且这些附加特征和优点部分地对于本领域的技术人员来说可以从说明书中显而易见,或者可通过以下说明书以及附图中所述的本发明的实践而认识到。应当理解,以上的总体说明和以下的详细说明都只是本发明的示例,意在提供对要求保护的本发明的本质和特征的总体或构架的理解。
包括附图以提供本发明的原理的进一步理解,附图包含在该说明书中并构成该说明书的一部分。这些附图示出一个或多个实施例,且与说明书一起借助示例来解释本发明的原理和操作。应理解的是,可以以任何组合和所有的组合来使用在说明书和附图中披露的本发明的各种方面。借助非限制性示例,如下所述可将本发明的各种方面彼此组合:
根据第一方面,提供一种用于保持熔融玻璃的设备,该设备包括:
腔室,该腔室用于保持熔融玻璃;
风箱,该风箱联接于腔室;
密封环,该密封环联接于风箱,其中,密封环包括一个或多个如下元件:气氛供给管、电引线、压力差传感器、热电偶、氧传感器和辅助端口,密封环还包括具有内直径的上部开口,其中,气氛供给管/排出管、电引线、压力差传感器、热电偶、氧传感器和辅助端口中的至少一个设置在上部开口和腔室之间;以及
盖,该盖可拆除地联接于密封环,且在密封环的上部开口的内直径上方延伸,其中,密封环设置在盖和腔室之间。
根据第二方面,提供如方面1所述的设备,其中,密封环通过风箱联接于腔室,风箱通过密封环联接于盖,且还包括延伸到腔室中的搅拌杆。
根据第三方面,提供如方面1所述的设备,其中,盖通过风箱联接于密封环,风箱通过密封环联接于腔室,且还包括管和压环,管和压环联接于密封环和腔室之间。
根据第四方面,提供如方面3所述的设备,其中,腔室是立管,且该设备还包括:
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