[发明专利]一种仿芝麻石凹凸网纹陶瓷的制造方法

权利要求书

1.一种仿芝麻石凹凸网纹陶瓷的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

A.按重量百分比配制含二氧化锡11～13％，二氧化锆78～82％，氧化镍4～6％，氧化钴2～4％的第一色基材料，按第一色基材料重量的50～60％加水研磨，按第一色基材料和透明基础釉重量比20∶100的比例将研磨后的第一色基材料与透明基础釉混合，加水配成总含固量50～52％的第一釉浆；

B.按重量百分比配制含氧化钴14～16％，氧化镍9～11％，三氧化二铬14～16％，氧化铁18～22％，二氧化锰38～42％的第二色基材料，按第二色基材料重量的50～60％加水研磨，按第二色基材料和透明基础釉重量比20∶100的比例将研磨后的第二色基材料与透明基础釉混合，加水配成总含固量50～52％的第二釉浆；

C.按重量百分比配制含二氧化锡11～13％，二氧化锆68～72％，氧化镍2～4％，氧化锑9～11％的第三色基材料，按第三色基材料重量的50～60％加水研磨，按第三色基材料和透明基础釉重量比20∶100的比例将研磨后的第三色基材料与透明基础釉混合，加水配成总含固量50～52％的第三釉浆；

D.按重量百分比配制含三氧化二硼38～42％，氧化钙28～32％，氧化锶14～16％，氧化锌14～16％的第四色基材料，按第四色基材料重量的50～60％加水研磨，按第四色基材料和透明基础釉重量比20∶100的比例将研磨后的第四色基材料与透明基础釉混合，加水配成总含固量50～52％的第四釉浆；

E.在陶瓷坯体上施第一釉浆，自然干燥0.5～1小时后施第二釉浆，再自然干燥1～1.5小时后施第三釉浆，再自然干燥1～1.5小时后施第四釉浆，第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆和第四釉浆的用量之比为1∶0.55～0.65∶0.35～0.45∶0.14～0.18；

F.施釉后的陶瓷坯体进行烧制：在200～800℃时每小时升温180～200℃，800～1100℃时每小时升温90～100℃，1100～1260℃时每小时升温50～60℃，到达1260～1270℃时停火降温，冷却后陶瓷坯体成为仿芝麻石凹凸网纹陶瓷制品。

2.根据权利要求1所述仿芝麻石凹凸网纹陶瓷的制造方法，其特征在于，在步骤A中，第一色基材料的重量百分含量为二氧化锡12％，二氧化锆80％，氧化镍5％，氧化钴3％。

3.根据权利要求1所述仿芝麻石凹凸网纹陶瓷的制造方法，其特征在于，在步骤B中，第二色基材料重量百分含量为氧化钴15％，氧化镍10％，三氧化二铬15％，氧化铁20％，二氧化锰40％。

4.根据权利要求1所述仿芝麻石凹凸网纹陶瓷的制造方法，其特征在于，在步骤C中，第三色基材料的重量百分含量为二氧化锡10％，二氧化锆70％，氧化镍3％，氧化锑10％。

5.根据权利要求1所述仿芝麻石凹凸网纹陶瓷的制造方法，其特征在于，在步骤D中，第四色基材料的重量百分含量为三氧化二硼40％，氧化钙30％，氧化锶15％，氧化锌15％。

6.根据权利要求1所述仿芝麻石凹凸网纹陶瓷的制造方法，其特征在于，在步骤E中，第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆和第四釉浆的用量之比为1∶0.6∶0.4∶0.18。

7.根据权利要求1所述仿芝麻石凹凸网纹陶瓷的制造方法，其特征在于，在步骤F中，烧制过程在温度为800～900℃时，采用还原方式烧制，此外的其它温度范围采用氧化方式烧制。