[发明专利]感应耦合等离子体装置有效
| 申请号： | 201010590661.6 | 申请日： | 2010-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102573258A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 彭东阳 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/16 | 分类号： | H05H1/16;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100026 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 感应 耦合 等离子体 装置 | ||
1.一种感应耦合等离子体装置，至少包括：感应耦合发生装置和等离子体工作室，所述感应耦合发生装置设置在所述等离子体工作室的顶端开口处，其特征在于，在所述感应耦合等离子体装置上设置有一补偿调节装置，所述的补偿调节装置设置在所述感应耦合发生装置的外部或内部，且该补偿调节装置用于补偿地磁场影响且调节等离子体密度分布。
2.根据权利要求1所述感应耦合等离子体装置，其特征在于，所述感应耦合发生装置由石英介质窗、设置在所述石英介质窗上的电感线圈和罩设在所述石英介质窗和所述电感线圈外部的屏蔽线圈盒构成；在所述石英介质窗与所述等离子体工作室之间设有用于调整等离子体工作室高度的调整支架。
3.根据权利要求1或2感应耦合等离子体装置，其特征在于，所述补偿调节装置为一对磁体，所述的一对磁体相对的设置在所述屏蔽线圈盒的外壁或内壁上。
4.根据权利要求3感应耦合等离子体装置，其特征在于，所述磁体为电磁铁或永磁铁。
5.根据权利要求1或2感应耦合等离子体装置，其特征在于，所述补偿调节装置包括支撑架和相对设置在所述支撑架上的一对磁体，所述支撑架固定在所述屏蔽线圈盒的外壁上，或固定在所述调整支架上。
6.根据权利要求5所述感应耦合等离子体装置，其特征在于，所述补偿调节装置还包括一罩设在所述磁体外部的环罩，所述环罩设置在所述支撑架上，所述环罩的底部设有滑轮，且所述支撑架上设有与所述滑轮相匹配的滑轨。
7.根据权利要求5所述感应耦合等离子体装置，其特征在于，所述磁体为电磁铁或永磁铁。
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