[发明专利]光刻机的垂向控制装置及方法有效
申请号: | 201010592409.9 | 申请日: | 2010-12-16 |
公开(公告)号: | CN102566287A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 王献英;毛方林;段立峰 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 控制 装置 方法 | ||
1.一种光刻机的垂向控制装置,用于对工件台进行垂向移位,使所述工件台承载的基底上的测量点移动至一目标平面内,其特征在于,所述垂向控制装置包括调焦调平传感器、垂向测量传感器、控制单元及执行机构,其中,
所述调焦调平传感器测量初始位置下所述基底上的测量点的位置信息,作为调焦调平传感器初始测量值输出至所述控制单元;
所述垂向测量传感器测量初始位置下所述工件台的位置信息,作为垂向传感器初始测量值输出至所述控制单元;
所述控制单元根据所述调焦调平传感器初始测量值和所述垂向传感器初始测量值,计算得到将所述基底上的测量点调节至所述目标平面内的垂向设定值;
所述控制单元以所述垂向设定值作为闭环控制的输入值,以所述垂向测量传感器实时测量得到的当前位置下所述工件台的位置信息作为闭环控制的反馈值,经由所述执行机构对所述工件台的位置进行所述闭环控制,从而将所述测量点调节到所述目标平面内。
2.如权利要求1所述的垂向控制装置,其特征在于,所述垂向测量传感器是光栅尺。
3.如权利要求1所述的垂向控制装置,其特征在于,所述执行机构包括三个执行器。
4.如权利要求3所述的垂向控制装置,其特征在于,所述执行器为带有旋转电机的凸轮结构。
5.一种光刻机的垂向控制方法,用于对工件台进行垂向移位,使所述工件台承载的基底上的测量点移动至一目标平面内,其特征在于,包括如下步骤:
a.由调焦调平传感器测量初始位置下所述基底上的测量点的位置信息,作为调焦调平传感器初始测量值,由垂向测量传感器测量初始位置下所述工件台的位置信息,作为垂向传感器初始测量值;
b.根据所述调焦调平传感器初始测量值和垂向传感器初始测量值,计算得到将所述基底上的测量点调节至所述目标平面内的垂向设定值;
c.以所述垂向设定值为闭环控制的输入值,以所述垂向测量传感器实时测量得到的当前位置下所述工件台的位置信息作为闭环控制的反馈值,对所述工件台的位置进行所述闭环控制,从而将所述基底上的测量点调到所述目标平面。
6.如权利要求5所述的垂向控制方法,其特征在于,所述调焦调平传感器初始测量值包括所述基底上的测量点在调焦调平传感器零平面内的高度zF和倾斜值rxF、ryF;所述垂向传感器初始测量值包括所述工件台相对于光刻机基座的高度zL和倾斜值rxL、ryL;所述垂向设定值包括高度设定值zL_Set和倾斜设定值rxL_set、ryL_set,分别表示当所述基底上的测量点位于所述目标平面内时,所述工件台相对于所述光刻机基座的高度和倾斜值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010592409.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种检测光刻机焦距偏移的方法
- 下一篇:基于石墨烯的表面等离子体极化波分束器