[发明专利]一种p型高透射率(100)-取向的LaNiO3纳米薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010593790.0 申请日: 2010-12-17
公开(公告)号: CN102154636A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 胡广达;焦璐;孙雯;钟仿仿;武卫兵;杨长红 申请(专利权)人: 济南大学
主分类号: C23C20/08 分类号: C23C20/08
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人: 李桂存
地址: 250022 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 透射率 100 取向 lanio sub 纳米 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种p型高透射率高(100)- 取向的LaNiO3薄膜的制备方法,其特征是采用以下步骤:

(1)前驱体溶液的制备:采用溶胶凝胶法,按摩尔比1:1称取硝酸镧和硝酸镍作为溶质,溶于摩尔比1:1混合的水和乙醇中,加入柠檬酸和聚乙二醇,配制成前驱体溶液,溶剂摩尔比水:乙醇:柠檬酸:聚乙二醇为=200:200:2:1,溶液浓度为0.08~0.20mol/L; 

(2)LaNiO3薄膜材料的制备:采用层层退火工艺,先用旋转涂膜法将前驱体溶液沉积在衬底材料上,然后将材料放置在热板上烘干,将干燥的薄膜置于快速退火炉中热处理,热处理工艺特征在于:在氧气气氛下从350℃以10℃/分钟的速率升温到450℃,450℃预处理10min,再以15℃/分钟的速率升温到600℃,在氮气气氛下退火20分钟,退火温度为600℃~650℃,得到LaNiO3薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所制得的LaNiO3薄膜厚度小于50nm,电阻率为1×10-4?·cm~2×10-4?·cm,表面粗糙度不大于1nm。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于衬底材料为石英、玻璃、硅片或者金属薄片,所述金属薄片为Ni片或Cu片。

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