[发明专利]一种低辐射玻璃无效
| 申请号： | 201010594602.6 | 申请日： | 2010-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN102092960A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | 朱文;仝大利;柳慧琼;刘喜 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 玻璃 | ||
【权利要求书】：
1.一种低辐射玻璃，从下往上依次包括玻璃基底、第一介质层和金属层，其特征在于，所述第一介质层与金属层之间依次设有第一阻挡层和过渡层，金属层上镀有第二阻挡层，所述第一和二阻挡层采用Ti或NiCr或它们的低价氧化物，过渡层采用Ti、Zn、Ni、Cr、W、Zr、Nb及Mo中的任意一种。
2.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第二阻挡层上还镀有第二介质层。
3.根据权利要求2所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一和二阻挡层厚度为1～3nm，过渡层厚度为3～6nm。
4.根据权利要求2或3所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一介质层为TiO2或ZnO或SnO2或Bi2O3，所述第二介质层为Si3N4，所述金属层为银。
5.根据权利要求4所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述金属层在常温下镀制得到。
6.根据权利要求2或3所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一介质层厚度为46～60nm，所述第二介质层厚度为40～80nm，所述金属层厚度为9～14nm。
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