[发明专利]一种低热导率的多层相变材料有效
申请号: | 201010595047.9 | 申请日: | 2010-12-17 |
公开(公告)号: | CN102142517B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 缪向水;童浩;程晓敏 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;B32B9/00;G01N25/20 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心42201 | 代理人: | 李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低热 多层 相变 材料 | ||
1.一种低热导率的多层相变材料,其特征在于:其为两种单层薄膜相变材料交替堆叠形成周期性的多层膜结构,两种薄膜材料的组成元素不全相同或完全相同但原子百分比不同。
2.根据权利要求1所述的多层相变材料,其特征在于,所述单层薄膜相变材料为GeTe、SbTe、BiTe、SnTe、AsTe、GeSe、SbSe、BiSe、SnSe、 AsSe、InSe、 GeSbTe和AgInSbTe中的任意一种,或者上述任意一种化合物掺杂S或N或O或Cu或Si或Au元素形成的混合物。
3.根据权利要求2所述的多层相变材料,其特征在于,掺杂元素占所述单层薄膜相变材料的原子百分比为0.5~50%。
4.根据权利要求1或2或3所述的多层相变材料,其特征在于,各单层薄膜相变材料的厚度范围为0.5nm至5nm。
5.根据权利要求1或2或3所述的多层相变材料,其特征在于:所述两种单层薄膜相变材料有相同的晶体结构且晶格常数接近。
6.一种制备权利要求1至5之一所述的多层相变材料的方法,具体为:先在衬底上沉积一层薄膜相变材料A,再在该层薄膜材料A上沉积另一种薄膜相变材料B,形成一个周期结构;然后在薄膜材料B上沉积一层薄膜材料A,再在薄膜材料A上沉积一层薄膜材料B,形成第二个周期结构;如此循环沉积成周期性的多层膜结构。
7.一种测试权利要求1至5之一所述的多层相变材料热导率的样品,包含两层绝缘导热材料和多层相变材料,多层相变材料位于两层绝缘导热材料之间,其中一层绝缘导热材料沉积于Si衬底上,另一层导热绝缘材料上沉积有金属条。
8.根据权利要求7所述的测试多层相变材料热导率的样品,其特征在于,所述绝缘导热材料的热导率大于1 W/mK。
9.根据权利要求7或8所述的测试多层相变材料热导率的样品,其特征在于,所述绝缘导热材料的厚度为5nm至20nm。
10.根据权利要求7或8所述的测试多层相变材料热导率的样品,其特征在于,所述金属条为“工”字形结构。
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