[发明专利]一种用于冷轧NiW合金基带EBSD分析的电解抛光方法有效
| 申请号： | 201010595241.7 | 申请日： | 2010-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN102051666A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 田辉;索红莉;高忙忙;马麟;刘敏;王毅;王营霞;袁冬梅;邱火勤;王金华;王建宏 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C25F3/26 | 分类号： | C25F3/26 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 沈波 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 冷轧 niw 合金 基带 ebsd 分析 电解 抛光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于冷轧NiW合金基带EBSD分析的电解抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)冷轧NiW合金基带表面或截面的机械抛光
将需要进行EBSD分析的表面或截面进行机械抛光，待测样品依次经过200#，400#，600#，800#，1500#的水磨砂纸抛磨后，再用金刚砂抛磨膏进行机械抛光；
(2)电解抛光液的配置
将HClO4、CH3COOH和C2H5OH以体积比为1∶3∶4的比例进行混合，得到电解抛光液；
(3)冷轧NiW合金基带表面或截面的电解抛光
将机械抛光好的表面或截面进行电解抛光，阴极材料为304不锈钢，电解抛光直流电电压为12V，电解抛光温度为15～30℃，电解抛光时间为20～45s，并且电解抛光时将电解抛光液至于磁力搅拌器上中速搅拌。
2.按照权利要求1的方法，其特征在于，步骤(3)中的中速优选2～3转/秒。
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