[发明专利]一种气相沉积设备有效
申请号: | 201010599935.8 | 申请日: | 2010-12-13 |
公开(公告)号: | CN102560436A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 张秀川 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/52 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张天舒;陈源 |
地址: | 100015 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉积 设备 | ||
1.一种气相沉积设备,包括工艺腔室和设置于所述工艺腔室外部的感应加热线圈,其特征在于,所述感应加热线圈包括至少2个串联在一起的且螺旋方向一致的子螺旋线圈,相邻的子螺旋线圈的间距可调,通过调节相邻的子螺旋线圈的间距而对所述工艺腔室内的温度分布进行调节。
2.根据权利要求1所述的气相沉积设备,其特征在于,在相邻的子螺旋线圈之间设置有可调卡具,借助所述可调卡具而将所述子螺旋线圈串联在一起并对子螺旋线圈的间距进行调节。
3.根据权利要求2所述的气相沉积设备,其特征在于,所述可调卡具包括滑动导轨和线圈连接部,所述线圈连接部用于将所述子螺旋线圈可滑动地固定于所述滑动导轨上。
4.根据权利要求3所述的气相沉积设备,其特征在于,同一个所述可调卡具中包括两个所述线圈连接部,用于分别连接相邻的子螺旋线圈的端部,通过调节所述两个线圈连接部在所述滑动导轨上的距离而调节所述子螺旋线圈的间距。
5.根据权利要求3或4所述的气相沉积设备,其特征在于,所述滑动导轨的可滑动方向与所述子螺旋线圈的螺距方向一致。
6.根据权利要求3或4所述的气相沉积设备,其特征在于,所述滑动导轨包括滑动槽,所述线圈连接部包括贯穿所述滑动槽的紧固螺栓,所述子螺旋线圈的端部具有与所述紧固螺栓相适配的连接孔。
7.根据权利要求2所述的气相沉积设备,其特征在于,所述可调卡具与所述工艺腔室之间的相对位置固定。
8.根据权利要求2所述的气相沉积设备,其特征在于,所述可调卡具采用导电材料制成。
9.根据权利要求8所述的气相沉积设备,其特征在于,所述可调卡具采用的材料包括铜、银。
10.根据权利要求1-9中任意一项所述的气相沉积设备,其特征在于,所述气相沉积设备包括金属有机化合物化学气相沉积设备。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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