[发明专利]一种超低损耗腔镜的镀膜工艺

说明书

【技术领域】

本发明涉及光学镀膜领域，尤其是一种超低损耗腔镜的镀膜工艺。

【技术背景】

离子束辅助沉积镀膜简称为IAD方式镀膜它是在热蒸发镀膜的同时，用离子束轰击，用这种方法比单纯热蒸发镀制的光学薄膜效果好。热蒸发镀膜技术的优点是：设备简单，很多介质材料都可用热蒸发技术镀膜。但所镀的薄膜有结构松驰、性能不稳定、寿命短、牢固度差等缺点。其原因从微观结构分析，是因热蒸发镀制的膜层呈柱状结构，在柱状间隙中，潮气的吸附和渗透造成上述缺陷。为了克服离子束辅助沉积方式的缺点，本发明采用使用双离子束溅射方式，镀前使用超声波清洗，离子束预清洗工艺，得到的薄膜非常致密、粗糙度极低，低温漂，低透射损耗和低散射损耗的薄膜；适当的退火方式后处理方式，能大幅度降低吸收损耗，从而得到超低损耗的薄膜(总损耗(含透射损耗、散射损耗、吸收损耗)＜20ppm)，从而提高激光腔镜的反射率。

【发明内容】

本发明使用DIBS双离子束溅射方式，镀前使用超声波清洗，离子束预清洗，得到的薄膜非常致密、粗糙度极低，低温漂，低透射损耗和低散射损耗的薄膜；镀后采用适当的退火方式后处理。

【具体实施方式】

实施例一：

采用双离子束溅射方式，镀膜前使用超声波清洗，离子束预清洗，镀膜后采用退火处理，得到超低损耗的薄膜，总损耗(含透射损耗、散射损耗、吸收损耗)＜20ppm。