[发明专利]新型抗生素纳米生物传感器的制备方法无效
申请号: | 201010601968.1 | 申请日: | 2010-12-23 |
公开(公告)号: | CN102175742A | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 张娟琨 | 申请(专利权)人: | 天津前方科技有限公司 |
主分类号: | G01N27/416 | 分类号: | G01N27/416;G01N27/26 |
代理公司: | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人: | 王融生 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 新型 抗生素 纳米 生物 传感器 制备 方法 | ||
1.一种新型抗生素纳米生物传感器的制备方法,其特征在于:
使用的实验材料和仪器:
p<100>单晶硅片,其电阻率O.15~0.2Ω·cm;
牛血清白蛋白(BSA);
0.2mol/L pH=7.0的PBS缓冲液;
四环素;
双氧水;
氨水;
3-氨丙基三乙氧基硅烷;
制备实验方法:
多孔硅的制备与氧化膜的形成
选择p<100>单晶硅片通过阳极电化学脉冲腐蚀制备多孔硅,控制脉冲频率为20HZ,脉冲幅度为8mv,占空比为0.5,腐蚀时间1h,该腐蚀过程在自制的聚四氟乙烯容器中进行,选择铂柱电极为阴极,硅片为阳极;腐蚀液体积比为V(48%HF)∶V(无水乙醇)∶V(H2O)=1∶1∶2;
刚制备好的多孔硅片用去离子水冲洗,用0.5%(V/V)的双氧水做电解液进行阳极氧化,处理20min,使多孔硅表面形成一层很薄的氧化膜,然后将多孔硅片浸入V(NH3)∶V(H2O2)∶V(H2O)=1∶1∶10组成的混合溶液中,70℃,保温20min,进行亲水化处理,以改变多孔硅表面的氧化层的疏水性,同时使多孔硅表面更加均匀;处理完毕后用蒸馏水冲洗干净,在真空干燥箱中200℃干燥处理1h;
适配子的固定化:
用APTES修饰多孔硅表面;将APTES与去离子水按1∶10的比例混合,用1mol/L的HCl溶液调整此混合液的pH为7.0;混合液在53℃恒温水浴,把制备好的多空硅片浸入上述溶液中,反应3h;然后用去离子水冲洗干净,在真空干燥箱中干燥处理;
取10μL2.5%的戊二醛溶液铺展于上述APTES修饰过的多孔硅片上,室温环境2h,使其充分反应;然后用去离子水冲洗,室温晾干;将5ng/μL的四环素适配子溶液10μL铺展于上述修饰过的多孔硅片上,室温过夜,使其充分反应,然后用去离子水冲洗;用2.0mg/mL BSA溶液封闭多孔硅的空白位点;之后用大量pH 7.0的PBS溶液冲洗,储存于真空干燥器中;
交流阻抗法测:
电化学检测采用三电极体系:由多孔硅传感器作为工作电极,铂柱电极作为对电极,Ag/AgCl作为参比电极:在电化学交流阻抗法测量中,频率扫描的范围选择0.01~100kHz,在开路电位下从高频100kHz开始扫描,扫描速度5mV/s,在ZAHNER Im6/6ex电化学工作站上进行测量;
待测物的检测:
待测物溶液即盐酸四环素溶液由PBS缓冲液配制而成;由于多孔硅材料的重复性,将待测物逐级滴加到检测体系中,使待测物的浓度逐渐提高;在电化学系统稳定1h之后,每隔15min向体系中滴加1次待测物,使其质量浓度逐级达到2.079~207.9nM,分别检测各个质量浓度对应的交流阻抗谱。
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