[发明专利]新型抗生素纳米生物传感器的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010601968.1 申请日: 2010-12-23
公开(公告)号: CN102175742A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 张娟琨 申请(专利权)人: 天津前方科技有限公司
主分类号: G01N27/416 分类号: G01N27/416;G01N27/26
代理公司: 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 代理人: 王融生
地址: 300384 天津*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 新型 抗生素 纳米 生物 传感器 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种新型抗生素纳米生物传感器的制备方法,其特征在于:

使用的实验材料和仪器:

p<100>单晶硅片,其电阻率O.15~0.2Ω·cm;

牛血清白蛋白(BSA);

0.2mol/L pH=7.0的PBS缓冲液;

四环素;

双氧水;

氨水;

3-氨丙基三乙氧基硅烷;

制备实验方法:

多孔硅的制备与氧化膜的形成

选择p<100>单晶硅片通过阳极电化学脉冲腐蚀制备多孔硅,控制脉冲频率为20HZ,脉冲幅度为8mv,占空比为0.5,腐蚀时间1h,该腐蚀过程在自制的聚四氟乙烯容器中进行,选择铂柱电极为阴极,硅片为阳极;腐蚀液体积比为V(48%HF)∶V(无水乙醇)∶V(H2O)=1∶1∶2;

刚制备好的多孔硅片用去离子水冲洗,用0.5%(V/V)的双氧水做电解液进行阳极氧化,处理20min,使多孔硅表面形成一层很薄的氧化膜,然后将多孔硅片浸入V(NH3)∶V(H2O2)∶V(H2O)=1∶1∶10组成的混合溶液中,70℃,保温20min,进行亲水化处理,以改变多孔硅表面的氧化层的疏水性,同时使多孔硅表面更加均匀;处理完毕后用蒸馏水冲洗干净,在真空干燥箱中200℃干燥处理1h;

适配子的固定化:

用APTES修饰多孔硅表面;将APTES与去离子水按1∶10的比例混合,用1mol/L的HCl溶液调整此混合液的pH为7.0;混合液在53℃恒温水浴,把制备好的多空硅片浸入上述溶液中,反应3h;然后用去离子水冲洗干净,在真空干燥箱中干燥处理;

取10μL2.5%的戊二醛溶液铺展于上述APTES修饰过的多孔硅片上,室温环境2h,使其充分反应;然后用去离子水冲洗,室温晾干;将5ng/μL的四环素适配子溶液10μL铺展于上述修饰过的多孔硅片上,室温过夜,使其充分反应,然后用去离子水冲洗;用2.0mg/mL BSA溶液封闭多孔硅的空白位点;之后用大量pH 7.0的PBS溶液冲洗,储存于真空干燥器中;

交流阻抗法测:

电化学检测采用三电极体系:由多孔硅传感器作为工作电极,铂柱电极作为对电极,Ag/AgCl作为参比电极:在电化学交流阻抗法测量中,频率扫描的范围选择0.01~100kHz,在开路电位下从高频100kHz开始扫描,扫描速度5mV/s,在ZAHNER Im6/6ex电化学工作站上进行测量;

待测物的检测:

待测物溶液即盐酸四环素溶液由PBS缓冲液配制而成;由于多孔硅材料的重复性,将待测物逐级滴加到检测体系中,使待测物的浓度逐渐提高;在电化学系统稳定1h之后,每隔15min向体系中滴加1次待测物,使其质量浓度逐级达到2.079~207.9nM,分别检测各个质量浓度对应的交流阻抗谱。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津前方科技有限公司,未经天津前方科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010601968.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top