[发明专利]光伏电池的制造方法无效
申请号: | 201010602785.1 | 申请日: | 2010-12-21 |
公开(公告)号: | CN102347395A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 涂志强;陈俊郎 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/20;G03F7/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 姜燕;陈晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电池 制造 方法 | ||
1.一种光伏电池的制造方法,包括:
提供一光伏电池基板;
进行一纳米压印微影工艺,以露出该光伏电池基板的部分表面,以及
进行一蚀刻工艺于该光伏电池基板露出的部分表面上。
2.根据权利要求1所述的光伏电池的制造方法,其中进行该纳米压印微影工艺的步骤包括:
形成一掩模层于该光伏电池基板上;
提供一模具,该模具具有一预定图案;以及
将该模具的该预定图案转移至该掩模层,并形成一开口于该掩模层中以露出部分该光伏电池基板。
3.根据权利要求1所述的光伏电池的制造方法,其中该蚀刻步骤包括一湿蚀刻工艺及/或一干蚀刻工艺。
4.根据权利要求1所述的光伏电池的制造方法,其中该织构步骤不包括一光微影工艺。
5.一种光伏电池的制造方法,包括:
提供一光伏电池基板;
形成一掩模层于该光伏电池基板上;
以一模具施压至该掩模层中,以形成一图案化掩模层,其中该模具具有一设计图案结构,且该图案化掩模层具有一厚度对比;
自该图案化掩模层移开该模具;以及
以该图案化掩模层作掩模,蚀刻该光伏电池基板以形成一织构化表面于该光伏电池基板中。
6.根据权利要求5所述的光伏电池的制造方法,其中该设计图案结构包括一光栅结构,且该光伏电池基板中的该织构化表面包括一光栅结构。
7.根据权利要求5所述的光伏电池的制造方法,其中该设计图案结构包括一周期性结构,且该周期性结构是一周期性柱状结构、一周期性间隙结构、或一周期性柱状与间隙结构。
8.根据权利要求5所述的光伏电池的制造方法,其中蚀刻该光伏电池基板的步骤包括一湿蚀刻工艺及/或一干蚀刻工艺。
9.一种光伏电池的制造方法,包括:
提供一太阳能电池基板;
形成一掩模层于该太阳能电池基板上;
提供一模具,该模具具有一预定图案结构;
以该模具的该预定图案结构压印该掩模层;
将该预定图案结构自该掩模层转移至该太阳能电池基板,以形成多个沟槽于该太阳能电池基板中;以及
之后自该太阳能电池基板上移除该掩模层。
10.根据权利要求9所述的光伏电池的制造方法,其中该预定图案结构包括多个孔洞的预定分布。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的