[发明专利]X射线荧光光谱分析谱线重叠校正方法有效
| 申请号： | 201010604338.X | 申请日： | 2010-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN102128851A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | 刘海东 | 申请（专利权）人： | 沈阳飞机工业（集团）有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 | 代理人： | 窦久鹏 |
| 地址： | 110034 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 射线 荧光 光谱分析 重叠 校正 方法 | ||
技术领域
本发明创造用于X射线荧光光谱分析谱线重叠校正。
背景技术
谱线重叠和基体效应是影响X射线荧光光谱分析准确性的两个主要因素，当采用基本参数（FP）校正基体效应时，必须先对谱线重叠进行强度校正得到真实的荧光强度。现有的谱线重叠的强度校正是用纯元素方法测量谱线重叠校正系数，然后应用谱线重叠校正系数计算真实的荧光强度。这种方法存在的问题及不足如下：①在实际应用中有些元素很难制得纯金属，可得到的纯金属也都比较昂贵。②纯元素方法测得谱线重叠校正系数方法繁琐，应用于合金系统，当测量所用线系存在其它元素的吸收增强作用时，所测得的谱线重叠校正系数不能用。
发明内容
本发明创造的目的是提供一种求取谱线重叠校正系数时减少对纯金属的依赖，降低生产试验成本的X射线荧光光谱分析谱线重叠校正方法；本发明创造的目的是通过下述的技术方案实现的：X射线荧光光谱分析谱线重叠校正方法，其步骤如下：
1）、Y元素的YKa谱线和X元素的XLa谱线重叠，Y元素YKa谱线的真实强度 I1Y＝IY测－I1X
式中：I1Y－YKa位置Y元素的真实荧光强度
I1X－YKa位置XLa重叠的荧光强度
IY测－YKa位置得Y元素的荧光总强度，包括重叠元素谱线的强度
2）、选取含Y元素不含X元素的标准样品或生产中选取的样品，根据Y元素百分含量Wi和测得Y元素的真实荧光总强度Ii建立校准曲线，校准曲线公式 Wi＝a×Ii＋b
式中：a－校准曲线斜率
b－常数
Y元素灵敏度 M＝1/ a
式中：M－（kcps/%）是元素测量强度相对含量的变化率
3）、含Y元素和X元素的标准样品或生产中选取的样品，计算YKa位置XLa重叠的荧光强度 I1 X＝K×IXKA
式中：K－谱线重叠校正系数 K＝I1 X/ IXKA
依据公式 I1Y＝IY测－I1X，IY测＝I1Y＋I1X 则K＝IY测－I1Y/ IXKA
I1Y的计算引入Y元素灵敏度M进行计算，I1Y＝M×C
C为样品中Y元素的百分含量
谱线重叠校正系数K＝（IY测－M×C）/ IXKA
4）、将谱线重叠校正系数K代入校正程序中，同时重新测量Y元素YKa谱线和X元素XKa谱线荧光强度，测得校正后Y元素谱线的荧光强度为真实强度 I1Y＝IY测－K×IXKA。
本发明创造的优点：避免使用昂贵纯金属，采用标准物质或生产中选取的样品，降低了生产试验成本。并简化谱线重叠强度校正方法，提高适用合金范围。
附图说明
图1是合金中谱线重叠示意图。
图中的：YKa
XKa
I1Y－YKa位置Y元素的真实荧光强度
I1X－YKa位置XLa重叠的荧光强度
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳飞机工业（集团）有限公司，未经沈阳飞机工业（集团）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010604338.X/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
