[发明专利]掩模对准探测装置及方法

权利要求书

1.一种掩模对准探测装置，其特征在于，包括：

透射型标记；

光电组件，探测掩模对准标记的空间像经过上述透射型标记后的光强信息，所述光电组件依次包括光子转换晶体、光学滤波片、光电探测器，所述光电探测器通过隔离板的通孔与光学滤波片相连；

工件台基准板，上面有通孔，所述透射型标记通过工件台基准板通孔与所述光子转换晶体直接连接。

2.根据权利要求1所述的掩模对准探测装置，其特征在于，所述光子转换晶体和光学滤波片安装在光学支架的通孔中。

3.根据权利要求2所述的掩模对准探测装置，其特征在于，所述掩模对准探测装置设置有暗销，用于将所述光学支架、所述隔离板和所述光电探测器支架固定，预放大电路板与所述光电探测器支架相连接。

4.根据权利要求1或3所述的掩模对准探测装置，其特征在于，所述工件台基准板通孔边沿呈阶梯状，所述透射型标记放置在所述工件台基准板通孔边沿上，形成复合盲孔结构。

5.根据权利要求1所述的掩模对准探测装置，其特征在于，所述掩模对准探测装置设置有标记承载板，所述透射型标记设置在所述标记承载板上。

6.根据权利要求5所述的掩模对准探测装置，其特征在于，所述标记承载板为石英板。

7.根据权利要求1或3所述的掩模对准探测装置，其特征在于，所述工件台基准板上还有反射型标记，用于硅片与工件台对准。

8.一种掩模对准探测方法，其特征在于，包括：

照明系统将照明光束照射到掩模对准标记上；

所述掩模对准标记通过投影物镜形成空间像；

光电组件探测所述空间像经过透射型标记后的光强信息，所述光电组件依次包括光子转换晶体、光学滤波片、光电探测器，所述光电探测器通过隔离板的通孔与光学滤波片相连，所述透射型标记通过工件台基准板通孔与所述光子转换晶体直接连接。

9.根据权利要求8所述的掩模对准探测方法，其特征在于，所述光子转换晶体和光学滤波片安装在光学支架的通孔中。

10.根据权利要求9所述的掩模对准探测方法，其特征在于，所述掩模对准探测装置设置有暗销，用于将所述光学支架、所述隔离板和所述光电探测器支架固定，预放大电路板与所述光电探测器支架相连接。

11.根据权利要求8或10所述的掩模对准探测方法，其特征在于，所述工件台基准板通孔边沿呈阶梯状，所述透射型标记放置在所述工件台基准板通孔边沿上，形成复合盲孔结构。