[发明专利]镀膜件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201010607434.X 申请日: 2010-12-27
公开(公告)号: CN102560394A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;B32B15/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 镀膜 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种镀膜件及其制造方法。

背景技术

过渡金属氮化物、碳化物和碳氮化物具有高硬度、高抗磨损性能和良好的化学稳定性等优异性能。因此,通常将过渡金属氮化物、碳化物和碳氮化物以薄膜的形式镀覆于3C电子产品的壳体、眼睛框及建筑件等产品表面,以此来提高产品的使用寿命。

但是此类镀膜件的制造过程中,由于硬质膜层与基体间的热膨胀系数相差较大,且不同组分的膜层的成份和结构有明显的变化,膜层间存在不可避免的热应力,晶格匹配带来的内应力,这些应力在薄膜制造完成后往往不能消除,因而膜层与基体结合力较差,薄膜在使用过程中容易发生剥离,从而影响了此类镀膜件的使用寿命及其应用范围。

发明内容

有鉴于此,有必要提供一种有效解决上述问题的镀膜件。

另外,还有必要提供一种制造上述镀膜件的方法。

一种镀膜件,其包括基体及形成于基体表面的打底层,该镀膜件还包括形成于打底层表面的梯度膜层,该打底层为镍铬合金层,该梯度膜层为镍铬硼氮层。

一种镀膜件的制造方法,其包括如下步骤:

提供基体;

采用镍铬合金靶为靶材,在基体表面形成打底层,该打底层为镍铬合金层;

以氮气为反应气体,采用镍铬合金靶及硼靶为靶材,在打底层的表面进行共溅射形成梯度膜层,该梯度膜层为镍铬硼氮层。

本发明镀膜件在基体的表面沉积镍铬合金层作为打底层,再在打底层的表面沉积镍铬硼氮层作为梯度膜层,膜系逐层过渡较好,膜层之间的结合力较好且膜层内部没有明显的应力产生,这样在施加外力的情况下,所镀的膜层不会因为结合力不佳和/或内部的应力缺陷导致失效,有效地提高了镀膜件的硬度及耐磨性,从而提高镀膜件的使用寿命。

附图说明

图1为本发明实施例镀膜件的剖视图;

图2为制造图1中镀膜件所用真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

镀膜件        10

基体          11

打底层        13

梯度膜层      15

镀膜机        100

镀膜室        20

真空泵        30

轨迹          21

第一靶材      22

第二靶材      23

气源通道      24

具体实施方式

请参阅图1,本发明一较佳实施例的镀膜件10包括基体11、形成于基体11表面的打底层13及形成于打底层13表面的梯度膜层15。

该镀膜件10为3C电子产品的壳体、眼睛框及建筑件等。

该基体11为含有Ni、Cr中至少一种元素的不锈钢。

该打底层13可以磁控溅射的方式形成。该打底层13为镍铬(NiCr)合金层。该打底层13的厚度可为100~300nm。

该梯度膜层15可以磁控溅射的方式形成。该梯度膜层15为镍铬硼氮(NiCrBN)层。所述梯度膜层15中氮元素的的质量百分含量由靠近打底层13至远离打底层13的方向呈梯度增加。该梯度膜层15的厚度可为1~4μm。

所述梯度膜层15中镍元素的质量百分含量为20%~30%,铬元素的质量百分含量为30%~45%,硼元素的质量百分含量为5%~10%,氮元素的质量百分含量为20%~40%。

本发明较佳实施例的镀膜件10的制造方法,其包括以下步骤:

提供基体11,将基体11放入盛装有无水乙醇或丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗,以除去基体11表面的杂质和油污。清洗完毕后烘干备用。

请参阅图2,提供一真空镀膜机100,将所述基体11置于该真空镀膜机100的镀膜室20内进行氩气等离子体体清洗,以进一步去除基体11表面的油污,以及改善基体11表面与后续涂层的结合力。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010607434.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top