[发明专利]一种光电成像系统性能评估实验分析方法有效
申请号: | 201010610980.9 | 申请日: | 2010-12-29 |
公开(公告)号: | CN102567608A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 赵怀慈;刘海峥;郝明国;花海洋;王立勇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院沈阳自动化研究所 |
主分类号: | G06F19/00 | 分类号: | G06F19/00 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 李晓光 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光电 成像 系统 性能 评估 实验 分析 方法 | ||
1.一种光电成像系统性能评估实验分析方法,其特征在于包括以下步骤:
建立光电成像系统性能预测模型;
在性能预测模型中划分输入因素集和输出指标集;
对输入因素集进行筛选实验;
根据筛选实验结果划分模型输入因素水平,建立模型输入因素水平表;
根据模型输入因素水平表,选取正交表,形成实验方案;
调用性能预测模型计算各实验方案对应的输出指标集;
利用输出指标集进行极差分析和灵敏度分析,结束本次实验分析过程。
2.按权利要求1所述的光电成像系统性能评估实验分析方法,其特征在于:所述划分输入因素集和输出指标集的过程为:
根据光电成像系统成像质量影响因素,将输入因素集划分为三个方面:目标背景特性、自然环境特性以及成像系统特性;输出指标集包括光电成像系统性能评估指标,即目标探测概率和目标识别概率。
3.按权利要求2所述的光电成像系统性能评估实验分析方法,其特征在于:
目标背景特性包含:目标大小、目标外形、目标背景对比度;自然环境特性包含:太阳夹角、能见度、观测距离、环境照度;成像系统特性包含:焦距、光学孔径、工作波长、光学透过率、象元尺寸、视场角、象元填充因子、象元个数以及量子效率;
上述各特性参数的固定条件为:确定某一通用显示器参数,将其视为常值;确定某一目标尺寸和对比度,将其属性设置为常值;确定某一典型大气条件。
4.按权利要求1所述的光电成像系统性能评估实验分析方法,其特征在于:对输入因素集进行筛选实验的过程为:
选取要考察的输入因素集中的某因素,固定其他输入因素,作多个水平的实验,检测选取该因素是否对实验指标具有显著影响,作为进一步实验的因素选择依据;
通过对多个因素实验筛选,确定自然环境特性中的环境照度、自然环境特性中观测距离、成像系统特性中光学孔径、焦距、光学透过率、象元填充因子以及量子效率,同时确定成像系统特性中视场角、象元尺寸取值。
5.按权利要求1所述的光电成像系统性能评估实验分析方法,其特征在于:建立模型输入因素水平表的过程为:
选取输入因素集中某因素,固定其他输入因素取值,在所选取的输入因素取值范围内计算输出指标,根据所选因素对输出指标影响幅度划分该因素水平,依次对其他输入因素进行上述操作,形成输入因素水平表。
6.按权利要求1所述的光电成像系统性能评估实验分析方法,其特征在于:选取正交表形成实验方案为:根据输入因素水平表,选择适合的正交试验表,形成实验方案表。
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