[发明专利]化学机械抛光头抛光压力控制方法及其装置无效
申请号: | 201010611738.3 | 申请日: | 2010-12-29 |
公开(公告)号: | CN102554781A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 高慧莹;罗杨;孙振杰;陈学森 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
主分类号: | B24B51/00 | 分类号: | B24B51/00;H01L21/304 |
代理公司: | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100 | 代理人: | 张贰群 |
地址: | 065201 河北省石家庄市*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械抛光 抛光 压力 控制 方法 及其 装置 | ||
1.一种化学机械抛光头抛光压力控制方法,其特征在于:加压汽缸通过超精密减压阀的控制来克服负载的自身重力;通过空气继电器的PID调节消除外界气源的波动;上位机控制的输出模拟量控制电空变换器、空气继电器、隔膜汽缸的方法来实现抛光的恒定压力控制和压力大小连续可调。
2.一种化学机械抛光头抛光压力控制装置,包括抛光盘加压机构,其特征在于主要具有超精密减压阀(7)、电空变换器(2)、空气继电器、隔膜汽缸(4);超精密减压阀(7)的输入端接通大气主气源,输出端连接到隔膜汽缸(4)的推端,电空变换器(2)的输入端接通大气主气源,电空变换器(2)的输出端连接到空气继电器(6)的控制端,控制端连接上位机的模拟量输出端上,空气继电器(6)的输入端接通大气主气源,空气继电器(6)的输出端连接到隔膜汽缸(4)的引端,隔膜汽缸(4)的输出汽缸杆与抛光盘加压机构连接。
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