[发明专利]基板处理装置的气体供给结构

权利要求书

1.一种基板处理装置的气体供给结构，其特征在于，包括：

导引架，具备构成多边形框体的外廓面的外廓架和设置在所述外廓架的内部且分隔中央窗口和该中央窗口周边的周边窗口的分隔架；

喷头，在所述分隔架的底面以多边形环状结构配置，以便向腔室内部喷射工艺气体。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置的气体供给结构，其特征在于，

所述喷头的喷射面以水平面形成，在该水平面上形成的气体喷射口沿垂直方向形成。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置的气体供给结构，其特征在于，

所述喷头的喷射面以曲面形成，在该曲面上形成的气体喷射口形成放射状结构。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置的气体供给结构，其特征在于，

所述喷头不仅形成在所述分隔架的底面，还形成在中央窗口侧的侧面上。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板处理装置的气体供给结构，其特征在于，

所述导引架的外廓架由四边形框体结构形成，所述喷头以四边形环状结构配置。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置的气体供给结构，其特征在于，

在构成所述中央窗口的四边形状的分隔架上，在四边形的各隅角部附近分别连接气体导入管，可通过分隔架的内部流路向所述喷头供给工艺气体。

7.一种基板处理装置的气体供给结构，其特征在于，

具备可向腔室内喷射工艺气体的喷头，所述喷头的喷射面形成为曲面，在该曲面上形成的气体喷射口形成放射状结构。