[发明专利]一种固定研磨粒抛光垫清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种固定研磨粒抛光垫清洗装置，包括：清洗装置主体；清洗液进液口，位于装置主体末端；与清洗液进液口连通的清洗液喷射口，位于清洗装置工作面，其特征在于，还包括清洗液排出口，位于装置主体末端；及与清洗液排出口连通的清洗液回收口，位于清洗装置工作面。

2.根据权利要求1所述的固定研磨粒抛光垫清洗装置，其特征在于，所述清洗液喷射口数量大于或等于回收口数量。

3.根据权利要求1所述的固定研磨粒抛光垫清洗装置，其特征在于，所述抛光垫清洗装置包含1～4排的喷射口及1～4排的回收口。

4.根据权利要求3所述的固定研磨粒抛光垫清洗装置，其特征在于，所述抛光垫清洗装置每排喷射口或回收口的数量为6-20个。

5.一种使用权利要求1至4任一项所述清洗装置的固定研磨粒抛光垫清洗方法，包括：

提供固定研磨粒抛光垫，置于可旋转抛光台之上；

提供抛光垫清洗装置，置于抛光垫上方；

启动抛光台以带动研磨垫旋转，清洗装置以清洗液对抛光垫进行清洗；所述清洗装置以喷射口喷射清洗液，以回收口回收清洗液。

6.根据权利要求5所述的固定研磨粒抛光垫清洗方法，其特征在于，所述清洗装置清洗过程包括：抛光台以第一转速运转，喷射口及回收口同时工作；抛光台以第二转速运转，喷射口停止工作，回收口持续工作；所述第二转速高于第一转速。

7.根据权利要求6所述的固定研磨粒抛光垫清洗方法，其特征在于，所述第一转速范围为5～20转/分钟，所述第二转速范围为50～200转/分钟。

8.根据权利要求5所述的固定研磨粒抛光垫清洗方法，其特征在于，所述喷射口及回收口与抛光垫的距离为1～10毫米。

9.根据权利要求6所述的固定研磨粒抛光垫清洗方法，其特征在于，抛光台以第一转速运转时，所述喷射口以第一流量喷射清洗液，回收口以第二流量吸入清洗液，所述第二流量大于第一流量。

10.根据权利要求9所述的固定研磨粒抛光垫清洗方法，其特征在于，所述第一流量为200～1000毫升/分钟。

11.根据权利要求9所述的固定研磨粒抛光垫清洗方法，其特征在于，所述第二流量为1000～5000毫升/分钟。

12.根据权利要求5所述的固定研磨粒抛光垫清洗方法，其特征在于，所述清洗液为去离子水。