[发明专利]直接水冷的粉末烧结多元合金镀膜靶及其制造方法

权利要求书

1.一种直接水冷的粉末烧结多元合金镀膜靶，包括粉末冶金的合金靶块，其特征是：在靶块的下面复合一个金属轧制的靶座，在靶座底外面的中心有螺纹孔。

2.制造权利要求1所述的直接水冷的粉末烧结镀膜靶的方法，其特征是：

(1)、将靶材原料即经过混合好的两种或两种以上的金属粉末材料装入石墨模具中；

(2)、将石墨模具置于真空烧结炉中的压力装置中间，对模具加压、加热、保温；

(3)、冷却后，将烧结好的整个靶块毛坯从模具取出，用线切割技术将该靶块毛坯切割成所需厚度的若干个靶块，并将每个靶块的上面、下面磨光、磨平，成靶块；

(4)、金属轧制的靶座呈池形，在靶座的池里依次放入紫铜铜焊料和一块靶材块，即紫铜铜焊料放在靶块和靶座之间，成为一个热压前的镀膜靶；

(5)、将若干个热压前的镀膜靶叠摞起来，放入在真空烧结炉焊炉中的压力装置中间，抽真空后加热至800-1100℃，加压、加热、保温；此时，靶座与靶块通过焊料紧密粘在一起，成为一个整体，然后冷却，烧结炉内充入气体，将若干个镀膜靶毛坯取出；

(6)、对每个镀膜靶毛坯进行机械加工，具体是：在靶座底外面的中心加工用于固定在水冷装置上的电弧源连接用螺纹孔；在靶块的上面，加工成用于镀膜离化的工作面；将靶座的池边切削掉，使靶座与靶块的外边缘一致，成为镀膜靶成品。

3.按照权利要求1所述的直接水冷的粉末烧结多元合金镀膜靶，其特征是：所说金属轧制的靶座是不锈钢或45号钢轧制的靶座。

4.按照权利要求2所述的直接水冷的粉末烧结镀膜靶的方法，其特征是：所说金属轧制的靶座是不锈钢或45号钢轧制的靶座。

5.按照权利要求1所述的直接水冷的粉末烧结多元合金镀膜靶，其特征是：在靶座底外面有直接接触冷却水的工作面。

6.按照权利要求2所述的直接水冷的粉末烧结镀膜靶的方法，其特征是：烧结靶材坯料和制作镀膜靶毛坯使用一个真空烧结炉。