[发明专利]具有硬质涂层的被覆件及其制备方法

权利要求书

1.一种具有硬质涂层的被覆件，包括基体及形成于该基体上的结合层，其特征在于：该被覆件还包括形成于该结合层上的一复合层，该复合层包括多层碳化钛层和TiHfC_XN_Y层，TiHfC_XN_Y层中0＜X≤1，0＜Y≤1，所述多层碳化钛层和多层TiHfC_XN_Y层交替排布。

2.如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：其中一碳化钛层与该结合层直接结合。

3.如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：所述每一碳化钛层和与其相邻的每一TiHfC_XN_Y层的厚度均为5～10纳米。

4.如权利要求3所述的被覆件，其特征在于：该复合层的总厚度为2～5微米。

5.如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：该结合层为一钛金属层。

6.如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：该基体为高速钢、硬质合金、金属陶瓷、陶瓷、不锈钢、镁合金及铝合金中的一种。

7.一种具有硬质涂层的被覆件的制备方法，包括以下步骤：

提供一待镀覆的基体；

将该待镀覆的基体放入一多靶磁控溅射设备的转架上，在该多靶磁控溅射设备内中心对称设置钛靶和钛铪合金靶；

在基体上溅射一结合层；

在结合层上交替溅射多层碳化钛层和多层TiHfC_XN_Y层，以形成一复合层，其中TiHfC_XN_Y层中0＜X≤1，0＜Y≤1，该多层碳化钛层和该多层TiHfC_XN_Y层交替排布。

8.如权利要求7所述的被覆件的制备方法，其特征在于：溅射所述复合层的步骤为：开启钛靶电源，以氩气为离子源气体，甲烷为反应气体，甲烷气体的流量为50～150sccm，基体加偏压-150～-250V，钛靶的功率为3000-4000W，以沉积一层碳化钛层，镀膜时间为2分钟；关闭钛靶电源并开启钛铪合金靶电源，钛铪合金靶的功率为4000～6000W，通入反应气体氮气，氮气的流量为20～200sccm，甲烷气体的流量为50～150sccm，调节基体的偏压至-150～-300V，以沉积一层TiHfC_XN_Y层，镀膜时间为2分钟；设置转架的转速为1～3rpm，重复以上沉积碳化钛层及TiHfC_XN_Y层的步骤，从而在基体上交替沉积碳化钛层和TiHfC_XN_Y层，溅射复合层的总的时间为30分钟～2小时。

9.如权利要求7所述的被覆件的制备方法，其特征在于：其中一碳化钛层与该结合层直接结合。

10.如权利要求7所述的被覆件的制备方法，其特征在于：该结合层为一钛金属层。