[发明专利]一种电子束烧蚀推进方法及系统有效
| 申请号： | 201010614753.3 | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102116277A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 乐小云;王莹;张高龙;张洁;荣翠华;王立英;喻晓;沈杰;屈卫卫;郭晨雷 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | F03H1/00 | 分类号： | F03H1/00;H05H1/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电子束 推进 方法 系统 | ||
1.一种电子束烧蚀推进方法，其特征在于，所述的方法包括：
采用电子束产生装置产生电子束，并使所述电子束经过所述电子束产生装置的出口射向靶材；
所述电子束烧蚀所述靶材产生反冲推力推动所述靶材。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述电子束烧蚀所述靶材产生反冲推力推动所述靶材，包括：
所述电子束烧蚀所述靶材，使所述靶材向外喷射出气体或者微小颗粒，同时产生反冲推力；
所述反冲推力推动所述靶材。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的电子束产生装置为短脉冲强流电子束产生装置。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述的短脉冲强流电子束产生装置为赝火花放电装置，所述的赝火花放电装置包括：高压电源、赝火花放电室及放电电容，所述的高压电源、放电电容及赝火花放电室依次顺序电连接，所述的放电电容与赝火花放电室并联连接。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述反冲推力的大小通过调节所述高压电源的电压及赝火花放电室的真空度进行调节。
6.一种电子束烧蚀推进系统，其特征在于，所述的系统包括：电子束产生装置及靶材，其中
所述电子束产生装置用于产生电子束，并使所述电子束经过所述电子束产生装置出口射向所述靶材，以产生烧蚀反冲推力推动所述靶材；
所述靶材用于接收所述电子束，并在所述电子束的烧蚀作用下向外产生气体或者微小颗粒。
7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述的电子束产生装置为短脉冲强流电子束产生装置。
8.如权利要求7所述的系统，其特征在于，所述的短脉冲强流电子束产生装置为赝火花放电装置，所述的赝火花放电装置包括：高压电源、放电电容及赝火花放电室，所述的高压电源及依次顺序电连接，所述的放电电容与赝火花放电室并联连接。
9.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述反冲推力的大小通过调节所述高压电源的电压及赝火花放电室的真空度进行调节。
10.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述靶材与赝火花放电室出束口的距离为1cm。
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