[发明专利]超导磁体无源匀场方法

权利要求书

1.超导磁体无源匀场方法，包括以下步骤：

A、运行超导磁体(1)使其升场，测得超导磁体(1)的磁场均匀度；

B、保留至少一条匀场体盘(3)不加入匀场小片；计算出其它匀场体盘(3)所需加入的匀场小片量，以使超导磁体(1)达到70％-95％磁场均匀度范围，并将所需的匀场小片加入到相应的匀场体盘(3)中；

C、使超导磁体降场(1)到安全的值，将装好匀场小片的匀场体盘(3)放入超导磁体(1)上相应的匀场孔(2)中；

D、运行超导磁体(1)使其升场，测得实际的超导磁体(1)的磁场均匀度；

E、计算出剩余空的匀场体盘(3)加入的匀场小片量，以使超导磁体(1)达到100％的磁场均匀度范围；

F、将剩余的匀场体盘(3)放入到在场的磁体相应的匀场孔(2)中，测得实际的超导磁体(1)的磁场均匀度，若没有达到所需的均匀度，反复调节这些剩余匀场体盘(3)中的匀场小片量，直至超导磁体(1)达到100％磁场均匀度范围。

2.如权利要求1所述的超导磁体无源匀场方法，其特征在于：在B步骤中，保留一半的匀场体盘(3)不加入匀场小片；计算出其它匀场体盘(3)间隔放入周向布置的匀场孔(2)时所需加入的匀场小片量。

3.如权利要求1所述的超导磁体无源匀场方法，其特征在于：在B步骤中，保留1/3的匀场体盘(3)不加入匀场小片；计算出其它匀场体盘(3)每两条空一格放入周向布置的匀场孔(2)时所需加入的匀场小片量。

4.如权利要求1所述的超导磁体无源匀场方法，其特征在于：在B步骤中，保留1/4的匀场体盘(3)不加入匀场小片；计算出其它匀场体盘(3)每三条空一格放入周向布置的匀场孔(2)时所需加入的匀场小片量。