[发明专利]一种碳化硅/碳化钛复相陶瓷的制备方法无效
申请号: | 201010617739.9 | 申请日: | 2010-12-31 |
公开(公告)号: | CN102093055A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 余兆菊;詹俊英;周聪;杨乐;涂惠彬;廖志楠;何国梅;夏海平;陈立富;张立同 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C04B35/56 | 分类号: | C04B35/56;C04B35/565;C04B35/622 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 碳化 钛复相 陶瓷 制备 方法 | ||
1.一种碳化硅/碳化钛复相陶瓷的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
1)在惰性气氛保护下,将二氯二茂钛和超支化聚碳硅烷加入溶剂中得溶液;
2)将步骤1)所得溶液中的溶剂脱除,剩余物在惰性气氛下进行裂解反应,反应结束后即得碳化硅/碳化钛复相陶瓷。
2.如权利要求1所述的一种碳化硅/碳化钛复相陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤1)中,所述二氯二茂钛和超支化聚碳硅烷的质量比为0.1~1∶1。
3.如权利要求1所述的一种碳化硅/碳化钛复相陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤1)中,所述溶剂为二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、三氯甲烷、二氯甲烷、四氢呋喃或正己烷。
4.如权利要求1所述的一种碳化硅/碳化钛复相陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤1)中,所述溶液中二氯二茂钛的质量分数为1%~10%。
5.如权利要求1所述的一种碳化硅/碳化钛复相陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤1)中,所述超支化聚碳硅烷的平均结构式为-[SiHR-CH2]n-,其中R为氢原子、烷基、烯基或炔基,n≥3。
6.如权利要求1所述的一种碳化硅/碳化钛复相陶瓷的制备方法,其特征在于在在步骤2)中,所述溶剂脱除是采用真空减压蒸馏的方法。
7.如权利要求1所述的一种碳化硅/碳化钛复相陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤2)中,所述裂解反应的温度为1200~1800℃,裂解反应的时间为10~120min。
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