[发明专利]镀膜件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜件及该镀膜件的制备方法，特别涉及一种具有疏水效果的镀膜件及该镀膜件的制备方法。

背景技术

浸润性是固体表面的重要性质之一。疏水表面是指固体表面与水的接触角大于90°的表面。近年来，疏水表面在日常生活和工业领域有着越来越重要的应用价值。目前应用较多的主要为在固体表面涂覆表面能低的有机疏水层，其中该类有机疏水层以含氟和/或硅的高分子材料居多；但有机疏水材料通常具有硬度低、不耐磨、耐热温度低等缺点，严重影响其进一步的应用。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种有效解决上述问题的镀膜件。

另外，还有必要提供一种上述镀膜件的制备方法。

一种镀膜件，其包括基体及形成于基体表面的疏水层，该疏水层包括依次形成于基体表面的非晶氮化碳(CN_y)层及氟化非晶氮化碳(CN_xF_z)层，其中1≤y≤3，1≤x≤3，1≤z≤4。

一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

采用磁控溅射法，使用石墨靶，以氨气为反应气体，在基体表面形成一氮化碳(CN_y)层，其中1≤y≤3，该氮化碳层为非晶态；

对该氮化碳层进行表面氟化处理以形成疏水层，该疏水层包括依次形成于基体表面的非晶氮化碳(CN_y)层及氟化非晶氮化碳(CN_xF_z)层，其中1≤x≤3，1≤z≤4。

本发明所述镀膜件的疏水层与水的接触角达到110°以上，且该疏水层的主要成份为氮化碳，而氮化碳具有化学性质稳定、耐高温、硬度高、耐磨等优点，可有效保护基体，相应地延长镀膜件的使用寿命。

附图说明

图1为本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图；

图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

镀膜件                        10

基体                          11

疏水层                        13

非晶氮化碳层                  131

氟化非晶氮化碳层              133

真空镀膜机                    20

镀膜室                        21

石墨靶                        23

轨迹                          25

真空泵                        30

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施方式的镀膜件10包括基体11及形成于基体11表面的疏水层13。

该基体11可为不锈钢或玻璃。

该疏水层13包括依次形成于基体11表面的非晶氮化碳(CN_y)层131及氟化非晶氮化碳(CN_xF_z)层133，其中1≤y≤3，1≤x≤3，1≤z≤4。该疏水层13具有相对较低的表面能，其与水的接触角可达110°以上。

所述非晶氮化碳(CN_y)层131的厚度为100～600nm。该非晶氮化碳层131可以磁控溅射镀膜法形成，如中频磁控溅射镀膜法。

所述氟化非晶氮化碳(CN_xF_z)层133的厚度为200～400nm。

本发明一较佳实施方式的镀膜件10的制备方法，其包括以下步骤：

提供一基体11，该基体11可为不锈钢或玻璃。

将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗，以去除基体11表面的污渍，清洗时间可为30～50min。

对经上述清洁前处理后的基体11的表面进行氩气等离子体清洗，以进一步去除基体11表面的油污，以及改善基体11表面与后续镀层的结合力。结合参阅图2，提供一真空镀膜机20，该真空镀膜机20包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)和相对设置的二石墨靶23。转架带动基体11沿圆形的轨迹25公转，且基体11在沿轨迹25公转时亦自转。