[发明专利]径向气浮导向模块及应用其的光刻机运动平台

权利要求书

1.一种径向气浮导向模块，设置于微动台，其特征在于，所述径向气浮导向模块包括：

圆环定子，具有气浮导向部，所述微动台以所述气浮导向部为导向运动；以及

多个柔性铰链，均匀地固定于所述微动台，每一个所述柔性铰链分别具有固定部、柔性部以及气浮部，所述固定部固定于所述微动台，所述柔性部连接所述固定部与所述气浮部，所述气浮部面对所述气浮导向部，且所述气浮部与所述气浮导向部之间能够形成均匀的压缩空气层。

2.根据权利要求1所述的径向气浮导向模块，其特征在于，所述微动台具有通孔，所述圆环定子位于所述通孔内，所述多个柔性铰链均匀地分布于所述通孔的四周，且所述气浮部位于所述气浮导向部与所述通孔的内壁之间。

3.一种光刻机运动平台，用于带动工件运动，其特征在于，所述光刻机运动平台包括：

微动台，用于承载所述工件；

Z向驱动装置，连接于所述微动台，所述Z向驱动装置用于驱动所述微动台运动；以及

径向气浮导向模块，设置于所述微动台，所述径向气浮导向模块包括：

圆环定子，具有气浮导向部，所述微动台在所述Z向驱动装置的驱动下以所述气浮导向部为导向运动；以及

多个柔性铰链，均匀地固定于所述微动台，每一个所述柔性铰链分别具有固定部、柔性部以及气浮部，所述固定部固定于所述微动台，所述柔性部连接所述固定部与所述气浮部，所述气浮部面对所述气浮导向部，且所述气浮部与所述气浮导向部之间能够形成均匀的压缩空气层。

4.根据权利要求3所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述微动台具有通孔，所述圆环定子位于所述通孔内，所述多个柔性铰链均匀地分布于所述通孔的四周，且所述气浮部位于所述气浮导向部与所述通孔的内壁之间。

5.根据权利要求3所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述Z向驱动装置包括Z向直线电机与Z轴旋转电机。

6.根据权利要求3所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括重力补偿单元，连接于所述微动台。

7.根据权利要求3所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括基座，所述微动台位于所述基座的上方。

8.根据权利要求7所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括支撑件，支撑所述Z向驱动装置，所述支撑件能够悬浮于所述基座上方。

9.根据权利要求3所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括：

X向导轨，所述微动台沿X向可滑动地设置于所述X向导轨；以及

X向直线电机，用于驱动所述微动台沿所述X向导轨滑动。

10.根据权利要求3所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括：

两个Y向导轨，位于所述微动台的两侧；

两个气浮滑座，分别连接于所述微动台，所述两个气浮滑座与对应的所述Y向导轨之间能够分别形成均匀的压缩空气层；以及

两个Y向直线电机，分别连接于所述两个气浮滑座，所述两个Y向直线电机用于驱动所述微动台沿所述两个Y向导轨滑动。

11.根据权利要求10所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括两个滑梭，分别连接于对应的所述Y向直线电机与所述气浮滑座之间。

12.根据权利要求10所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括两个位移测量装置，分别测量两个Y向电机的运动位移，并利用其产生的反馈信号计算对应的所述Y向电机的运动位置偏差，并进行实时校正。

13.根据权利要求3所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括承载件与粗动圆环，所述承载件用于承载所述工件并设置于所述粗动圆环的上表面，所述粗动圆环设置于所述微动台的上表面。

14.根据权利要求13所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述承载件下表面具有真空槽，所述承载件通过所述真空槽吸附于所述粗动圆环的上表面。

15.根据权利要求13所述的光刻机运动平台，其特征在于，所述光刻机运动平台还包括真空块，设置于所述微动台的上表面，所述粗动圆环通过所述真空块吸附于所述微动台的上表面。