[发明专利]一种大视场投影光刻物镜

权利要求书

1.一种投影光刻物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：

一具有正光焦度的第一透镜组G31；

一具有正光焦度的第二透镜组G32；

一具有正光焦度的第三透镜组G33；以及

一具有正光焦度的第四透镜组G34；

其中，所述各透镜组满足以下关系：

1.8＜|f_G32/f_G31|＜5.4

0.57＜|f_G33/f_G34|＜0.97

0.19＜|f_G33/f_G32|＜0.5

其中：

f_G31：所述第一透镜组G31的焦距；f_G32：所述第二透镜组G32的焦距；f_G33：所述第三透镜组G33的焦距；以及f_G34：所述第四透镜组G34的焦距。

2.如权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于：

所述第一透镜组G31由至少四片透镜构成；

所述第二透镜组G32由至少六片透镜构成；所述第二透镜组G32至少包含两对相邻的正负透镜组合；

所述第三透镜组G33由至少六片透镜构成；所述第三透镜组G33包含一子透镜组G33-1n，所述子透镜组G33-1n光焦度为正，包含所述第三透镜组G33中至少两个位置相邻且光焦度为正的透镜；

所述第四透镜组G34由至少六片透镜构成；所述第四透镜组G34包含一子透镜组G34-1n，所述子透镜组G34-1n光焦度为正，包含所述第四透镜组G34中至少三个位置相邻且光焦度为正的透镜；

所述各透镜组与子透镜组之间满足以下关系式：

1.03＜|f_{el_max}/f_G31|＜1.95

0.34＜|f_G33-1n/f_G33|＜0.87

0.21＜|f_G34-1n/f_G34|＜0.47

其中：

f_{el_max}：第一透镜组G31内光焦度最大的透镜的焦距；f_G33-1n：第三透镜组G33的子透镜组G33-1n的焦距；f_G34-1n：第四透镜组G34的子透镜组G34-1n的焦距。

3.如权利要求2所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第二透镜组G32内至少包含一正透镜和其相邻的一负透镜，其阿贝数比满足以下关系：

1.23＜V_G32正/V_G32负＜1.85

其中：V_G32正为所述第二透镜组G32内一正透镜的阿贝数；V_G32负为所述第二透镜组G32内与所述正透镜相邻的一负透镜的阿贝数。

4.如权利要求2所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第二透镜组G32内至少包含一正透镜和其相邻的一负透镜的阿贝数比满足以下关系：

1.59＜V_G32正/V_G32负＜2.65

其中：V_G12正为所述第二透镜组G32内一正透镜的阿贝数；V_G12负为所述第二透镜组G32内与所述正透镜相邻的一负透镜的阿贝数。

5.如权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第三透镜组G33的子透镜组G33-1n内相邻两片正透镜的焦距，按照从掩模到硅片的顺序焦距依次为f₄₁、f₄₂，这两片透镜的焦距满足以下关系：0.75＜f₄₁＜f₄₂＜1。

6.如权利要求2所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述投影物镜由至少两种高折射率材料与至少两种低折射率材料构成。