[发明专利]淀积掩模和具有该淀积掩模的掩模组件有效
申请号: | 201010620286.5 | 申请日: | 2010-12-31 |
公开(公告)号: | CN102140619A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 朴钟贤;金泰亨;李一铉 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C16/04 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;赵芳 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 淀积掩模 具有 模组 | ||
1.一种淀积掩模,该淀积掩模的两端具有尖的截面,使得当该淀积掩模与其他淀积掩模连续地平行布置时,相邻淀积掩模的至少一部分在所述相邻淀积掩模之间的边界处彼此交叠。
2.根据权利要求1所述的淀积掩模,其中,所述淀积掩模的一端的截面不同于相邻淀积掩模的相对端的截面。
3.根据权利要求1所述的淀积掩模,其中,所述截面为非对称角形或非对称箭头形。
4.根据权利要求3所述的淀积掩模,其中,所述截面具有在指向所述淀积掩模的外部的接触部彼此交汇的第一扇形和第二扇形,所述第一扇形形成在上表面处并具有第一半径和第一中心角,所述第二扇形形成在下表面处并具有不同于所述第一半径的第二半径和不同于所述第一中心角的第二中心角,并且其中,所述淀积掩模的接触部与相邻淀积掩模的接触部不交汇。
5.根据权利要求1所述的淀积掩模,其中,所述淀积掩模包括使有机物质通过的孔径区,以及与所述孔径区外部的区域相对应的拦截区。
6.根据权利要求5所述的淀积掩模,其中,所述孔径区包括分别与布置在衬底的有源区中的多个单元相对应的多个单元图案。
7.根据权利要求6所述的淀积掩模,其中,各个单元图案的宽度大于相对应单元的宽度。
8.根据权利要求6或7所述的淀积掩模,其中,与蓝色单元相对应的单元图案的尺寸大于与绿色单元或红色单元相对应的单元图案的尺寸。
9.一种掩模组件,其包括:
连续地平行布置的根据权利要求1至8中任意一项所述的多个淀积掩模;以及
框架,其与所述多个淀积掩模相连接。
10.根据权利要求9所述的掩模组件,其中,所述多个淀积掩模在受到预定张力而伸展开的状态下被连接至所述框架。
11.根据权利要求9所述的掩模组件,其中,所述框架为多边形框架的形式。
12.根据权利要求9所述的掩模组件,其中,所述框架通过焊接而连接至所述多个淀积掩模。
13.一种制造淀积掩模的方法,其包括以下步骤:
淀积膜;
对所述膜的上表面的一端进行刻蚀以形成第一扇形;
对所述膜的下表面的一端进行刻蚀以形成第二扇形;
其中,所述第一扇形和所述第二扇形在第一接触点彼此交汇。
14.根据权利要求13所述的方法,该方法进一步包括以下步骤:
对所述膜的所述上表面的另一端进行刻蚀以形成第三扇形;
对所述膜的所述下表面的另一端进行刻蚀以形成第四扇形;
其中,所述第三扇形和所述第四扇形在第二接触点彼此交汇;
其中,所述第一接触点和所述第二接触点是非对称的。
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