[发明专利]等离子处理装置

权利要求书

1.一种等离子处理装置，利用等离子体对基板进行处理，其特征在于，包括：

真空容器，在其内部利用上述等离子体对上述基板进行处理；

旋转台，设于上述真空容器内，形成用于载置基板的至少1个基板载置区域；

旋转机构，使该旋转台旋转；

气体供给部，向上述基板载置区域供给等离子体产生用的气体；

主等离子体产生部，在与上述基板载置区域的通过区域相对的位置的、上述旋转台的中央部侧和外周侧之间呈棒状延伸地设置，用于向上述气体供给能量而使其等离子化；

辅助等离子体产生部，在上述真空容器的周向上相对于该主等离子体产生部分开地设置，用于补偿由该主等离子体产生部产生的等离子体的不足的部分；

真空排气部件，将上述真空容器内排成真空。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

该等离子处理装置具有反应气体供给部件，该反应气体供给部件在周向上相对于上述主等离子体产生部和上述辅助等离子体产生部分开地设置，用于对基板进行成膜。

3.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述真空容器具有分离区域，该分离区域设于在旋转台的周向上相互分开地形成的多个处理区域以及上述多个处理区域之间，

上述反应气体供给部件分别供给互不相同的反应气体，

在上述多个处理区域之间供给有用于防止互不相同的反应气体混合的分离气体，上述成膜通过依次向基板表面供给互不相同的反应气体而进行。

4.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述主等离子体产生部、上述辅助等离子体产生部和气体供给部被共用的罩体覆盖，使得从旋转台的旋转方向上游侧流来的气体在上述主等离子体产生部和上述辅助等离子体产生部与该主等离子体产生部和该辅助等离子体产生部的上方的顶部之间流动。

5.根据权利要求4所述的等离子处理装置，其特征在于，

在上述罩体的上述旋转方向上游侧设有气流限制部，该气流限制部通过使沿长度方向延伸的侧面部的下缘以向该上游侧延伸的方式呈凸缘状地弯曲而形成。

6.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述辅助等离子体产生部为了补偿由上述主等离子体产生部产生的基板载置区域的外缘侧的等离子体的不足的部分而设置。

7.根据权利要求6所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述主等离子体产生部和上述辅助等离子体产生部共用作为用于产生等离子体的电力供给源的高频电源，上述辅助等离子体产生部为了在上述旋转台的中央侧部位抑制等离子体向基板载置区域扩散，在下方侧具有扩散抑制部。

8.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述主等离子体产生部和上述辅助等离子体产生部中的至少一个等离子体产生部从上述旋转台外周侧的上述真空容器的侧壁气密地插入该真空容器内，为了使上述至少一个等离子体产生部的长度方向相对于上述旋转台上的基板的表面倾斜，在上述至少一个等离子体产生部的基端部侧设有倾斜调整机构。

9.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述主等离子体产生部和上述辅助等离子体产生部是互相沿长度方向平行地延伸、用于产生电容耦合型等离子体的平行电极。

10.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述主等离子体产生部和上述辅助等离子体产生部相当于用于产生感应耦合型等离子体的天线中的、棒状的天线部分。