[发明专利]一种能提高光提取效率的发光二极管及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010622199.3 申请日: 2010-12-27
公开(公告)号: CN102569588A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 张雪亮;吴东海 申请(专利权)人: 同方光电科技有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 提取 效率 发光二极管 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种能提高光提取效率的发光二极管,它包括基板(11)以及置于基板(11)上方的依次由N型半导体层(21)、发光层(22)、P型半导体层(23)和透明导电层(41)组成的发光结构,透明导电层(41)上的一端置有P型电极(52),在N型半导体层(21)上、与P型电极(52)相对的另一端置有N型电极(51);其特征在于,所述P型半导体层(23)和透明导电层(41)之间置有正向光导出结构(31),正向光导出结构(31)为等间距矩阵排列的数多个小凸块。

2.根据权利要求1所述的所述能提高光提取效率的发光二极管,其特征在于,所述正向光导出结构(31)采用对所发出的光为透明的且对光的折射率大小介于P型半导体层(23)和透明导电层(41)折射率之间的材料。

3.根据权利要求1或2所述的所述能提高光提取效率的发光二极管,其特征在于,所述小凸块的高度为0.1-10μm,小凸块的底部直径为1-10μm,小凸块的之间的间距为1-10μm。

4.一种能提高光提取效率的发光二极管的制备方法,其步骤为:

1)在基板(11)上用晶体材料外延生长技术分别外延生长N型半导体层(21)、发光层(22)以及P型半导体层(23);

2)利用光刻和刻蚀技术刻蚀出N型半导体层(21)的欧姆接触区;

3)利用光刻、刻蚀、蒸发的方法在P型半导体层(23)上制作正向光导出结构(31);

4)利用光刻和蒸发的方法在正向光导出结构(31)上制作透明导电层(41)将其覆盖;

5)利用光刻和蒸发的方法制备N型电极(51)和P型电极(52);

6)将制作完成的发光二极管从底面减薄,并沿设计好的分割道分割成单个管芯。

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