[发明专利]一种光谱分析方法无效

专利信息
申请号: 201010622421.X 申请日: 2010-12-31
公开(公告)号: CN102103080A 公开(公告)日: 2011-06-22
发明(设计)人: 吴继明;张东明;吕全超 申请(专利权)人: 聚光科技(杭州)股份有限公司
主分类号: G01N21/62 分类号: G01N21/62;G01N21/63
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310052 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 光谱分析 方法
【权利要求书】:

1.一种光谱分析方法,包括以下步骤:

A、建立分析模型

激发标准样品,获得原子光谱信息;

从所述光谱信息中选择分析元素的m条特征谱线,m≥2;

根据上述m条特征谱线对应的谱线数据及所述分析元素的元素含量/诱导含量,建立分析模型;

B、分析未知样品

按照步骤A的方法获得未知样品相应分析元素的谱线数据,并代入上述分析模型,得到未知样品相应分析元素的含量。

2.根据权利要求1所述的光谱分析方法,其特征在于:所述分析模型为Yp×1=Xp×t×Ft×1,其中Y为元素含量/诱导含量矩阵,X为谱线数据矩阵,F为系数矩阵,p为样品个数,p≥2,t≥m。

3.根据权利要求2所述的光谱分析方法,其特征在于:

a1、取m条特征谱线的谱线强度组成行向量I;

将p块样品的行向量I组合,建立强度矩阵Ap×q,q=m;

a2、利用矩阵Ap×q构建s次多项式矩阵Bp×t,t=s×q+1,s=1,2,……;

a3、将矩阵Bp×t作为谱线数据矩阵Xp×t

4.根据权利要求3所述的光谱分析方法,其特征在于:由矩阵Ap×q构建矩阵Bp×t的方法为:

矩阵Bp×t第(s×i-j+1)列各矩阵元素为矩阵Ap×q第i列相应矩阵元素的j次方,i=1,2,…,q;j=1,2,…,s;

矩阵Bp×t第(s×q+1)列各矩阵元素均为常数。

5.根据权利要求4所述的光谱分析方法,其特征在于:矩阵Bp×t第(s×q+1)列各矩阵元素均为1。

6.根据权利要求3所述的光谱分析方法,其特征在于:

在步骤A中,从所述光谱信息中再选择n条内标元素的特征谱线,n≥1;

步骤a1为:将m条分析元素的特征谱线和n条内标元素的特征谱线交叉配对,并取配对后相应特征谱线的谱线强度比值,组成行向量I;

将p块样品的行向量I组合,建立强度矩阵Ap×q,q=m×n。

7.根据权利要求3所述的光谱分析方法,其特征在于:

步骤a1中,特征谱线各波长点强度组成长度为r的谱线强度向量,m条特征谱线的谱线强度向量组成行向量I,r≥1;

将p块样品的行向量I组合,建立强度矩阵Ap×q,q=m×n×r。

8.根据权利要求7所述的光谱分析方法,其特征在于:

在步骤A中,从所述光谱信息中再选择n条内标元素的特征谱线,内标谱线特征谱线各波长点强度组成长度为l的谱线强度向量,l≥1;

步骤a1为:将m条分析元素的特征谱线和n条内标元素的特征谱线交叉配对,并对配对的谱线强度向量中的向量元素交叉配对,并取交叉配对后向量元素的比值,组成行向量I;

将p块样品的行向量I组合,建立强度矩阵Ap×q,q=m×n×r×l。

9.根据权利要求3或6或7或8所述的光谱分析方法,其特征在于:

不包括步骤a2;

步骤a3为:将矩阵Ap×q作为谱线数据矩阵Xp×t,q=t。

10.根据权利要求6或8所述的光谱分析方法,其特征在于:内标元素为样品基体元素。

11.根据权利要求1所述的光谱分析方法,其特征在于:采用偏最小二乘算法,建立分析模型。

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