[发明专利]用于图像形成设备的显影单元有效

专利信息
申请号: 201010623211.2 申请日: 2010-12-24
公开(公告)号: CN102109802A 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 佐藤正吾 申请(专利权)人: 兄弟工业株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 吴龙瑛;梅高强
地址: 日本国爱知县名*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 用于 图像 形成 设备 显影 单元
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种用于图像形成设备的显影单元,在该显影单元中,显影剂被供应到形成在感光潜像载体上的静电潜像。

背景技术

一种利用显影单元在记录介质上形成图像的图像形成设备已为人所知。显影单元通常具有以表面携带显影剂的显影辊、将显影剂供应到显影辊的供应辊、和沿供应辊的轴向携带显影剂以将显影剂供应到供应辊上的螺旋推运器(auger)。显影单元可以具有两个螺旋推运器,分别设置在竖直上的重叠位置处,其中一个螺旋推运器位于另一个螺旋推运器的上面。特别是,其中一个螺旋推运器可以被设置成在较低的位置处靠近供应辊,另一个螺旋推运器可以被设置在位于较低位置处的螺旋推运器的上面。根据这种设置,显影剂能够沿着螺旋推运器移动,以便被运送到供应辊。例如,Japanese Patent Provisional Publication(日本专利临时公布)No.H09-319199公开了这种显影装置。

发明内容

特别是,在具有两个旋转推运器的显影单元中,其中一个螺旋推运器可以被设置在较低的位置处靠近供应辊,另一个螺旋推运器可以被设置在位于较低位置处的螺旋推运器的上方。换句话说,螺旋推运器中仅有一个被设置在供应辊的附近。因此,虽然位于较低位置处的螺旋推运器能够输送邻近区域内的显影剂,但是分布在远离较低位置处的螺旋推运器的区域中的显影剂则易于滞留在原处,而不受较低位置处的螺旋推运器的旋转的影响。此外,当单独一个螺旋推运器被设置在供应辊的附近时,该螺旋推运器传送显影剂的能力可能取决于单个螺旋推运器的设计,并且螺旋推运器周围的显影剂的密度可能发生改变。当由螺旋推运器运送的显影剂的密度发生改变时,最终可能导致显影剂无法被均匀地供应到显影辊。显影剂供给不均可能引起图像形成设备打印不规则。而且,当螺旋推运器被设置在竖直方向上的重叠位置时,容纳螺旋推运器的壳体需要具有相当的高度。当显影剂在具有相当高度的壳体中积聚时,位于壳体底部的构件(例如供应辊和显影辊)则承受显影剂的更大的压力。因而,显影剂对构件的过大压力可能导致显影剂不均匀地供应到显影辊。并且可能导致打印不规则。此外,当壳体中的显影剂的压力增大时,显影剂可能通过构件之间的接触区域从壳体漏出。

鉴于以上缺陷,本发明的优势在于,提供一种显影单元,在该显影单元中,显影剂的滞留以及显影剂对显影辊的不均匀供给得以被抑制。

根据本发明的一个方面,提供一种用于图像形成设备的显影单元。该显影单元包括显影装置,所述显影装置具有显影剂载体、显影剂供应器和限制构件:所述显影剂载体在其表面上可旋转地携带显影剂;所述显影剂供应器将显影剂供应到显影剂载体;所述限制构件刮擦显影剂载体的表面,用以限制显影剂载体的表面上的显影剂的厚度。显影单元进一步包括显影剂容器和多个传送器:所述显影剂容器用于容纳显影剂;所述多个传送器包括第一传送器和第二传送器,用于在显影剂供应器的轴向方向上传送显影剂。第一传送器和第二传送器被设置成沿着显影剂供应辊的圆周平行于第一传送器。

作为选择,所述限制构件被设置在高于显影剂供应器的位置上。所述显影剂容器被设置成在显影单元中靠近显影装置。所述第一传送器被设置在相对于显影剂供应器的靠上的位置处,靠近所述的限制构件。

根据以上构造,多个传送器在显影剂供应器的附近传送显影剂。因此,能够防止在临近显影剂供应器的区域中的显影剂。例如,当显影单元只具有单个传送器在一个方向上传送显影剂时,传送器周围的显影剂的密度取决于该单个传送器的设计和形状。传送器周围显影剂密度不均匀可能引起显影剂被不均匀地供给到显影剂供应器和显影剂载体。但是,采用将显影剂供应到显影剂供应器的第一传送器和被设置为平行于第一传送器并且搅拌要被供应到第一传送器的显影剂的第二传送器,则能够抑制显影剂被不均匀地供应到显影剂供应器和显影剂载体。

作为选择,显影剂容器可以被设置在相对于显影装置的靠上的位置上,并且在第一传送器的附近。第二传送器可以被设置在相对于显影剂供应器的靠上的位置处,并且靠近第一传送器。显影装置可以被形成为具有容纳第一传送器的第一室、容纳第二传送器的第二室和划分第一室和第二室的分隔壁。显影装置可以被构造成在显影剂载体、显影剂供应器和第一和第二传送器被驱动时,第一室中的显影剂的水平低于第二室中的显影剂的水平。

根据以上构造,显影剂载体和限制构件的接触区域上的显影剂的压力被减小到更小。当该接触区域经受更小的压力时,能够防止由于高压引起的显影剂从所述接触区域被泄漏。

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