[发明专利]用于真空处理设备的喷头组件有效
申请号: | 201010624484.9 | 申请日: | 2010-12-10 |
公开(公告)号: | CN102094188A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | W·T·布洛尼甘;M·A·伦塔 | 申请(专利权)人: | 奥博泰克LT太阳能公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡胜利 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 真空 处理 设备 喷头 组件 | ||
1.一种真空处理腔,包括:
腔室壳体;
喷头组件,其被连接至腔室壳体的顶部部分,并且所述喷头组件包括:
与腔室壳体刚性结合的背板;
穿孔的喷头板;
多个紧固组件,将所述喷头板滑动固定于背板,使得喷头板可相对于背板滑动;以及
其中,气体密封被保持于喷头板与背板之间。
2.根据权利要求1所述的真空处理腔,其特征在于,穿孔的喷头板在其外围包括多个椭圆形孔,且其中所述多个紧固组件中的每一个被插入所述多个椭圆形孔的对应一个中。
3.根据权利要求1所述的真空处理腔,其特征在于,喷头组件进一步包括设置于喷头板和背板之间的O型圈。
4.根据权利要求1所述的真空处理腔,其特征在于,喷头组件进一步包括设置于喷头板与背板之间的衬垫,从而在喷头板与背板之间保持很小的间隙。
5.根据权利要求1所述的真空处理腔,其特征在于,喷头板进一步包括圆形孔和穿过所述圆形孔并将喷头板牢固固定于背板上的螺栓。
6.根据权利要求2所述的真空处理腔,其特征在于,所述多个椭圆形孔中的每一个被定向成使其长轴位于沿着从喷头板中心放射状延伸且穿过该椭圆形孔的直线方向上。
7.根据权利要求6所述的真空处理腔,其特征在于,每个紧固组件包括栓,使得在紧固组件固定于其对应的椭圆形孔中时只能够有一个定向。
8.根据权利要求1所述的真空处理腔,其特征在于,每个紧固组件包括滚珠轴承组件及穿过所述滚珠轴承组件的螺栓。
9.根据权利要求8所述的真空处理腔,其特征在于,所述滚珠轴承组件包括:
其中具有椭圆形孔的插件;
其中具有多个非圆形孔的滑动板;
多个滚珠,每一个对应于其中一个所述非圆形孔;
其中具有圆形孔的盖板。
10.根据权利要求9所述的真空处理腔,其特征在于,插件进一步包括栓,以将所述插件定向在喷头板的其中一个椭圆形孔内。
11.根据权利要求9所述的真空处理腔,其特征在于,插件、滑动板、多个滚珠以及盖板中的至少一个由陶瓷制成。
12.根据权利要求8所述的真空处理腔,其特征在于,所述真空处理腔进一步包括用于覆盖紧固组件的盖板。
13.根据权利要求1所述的真空处理腔,其特征在于,每个紧固组件包括:
插件,其具有椭圆形孔和滑动面;
盖板,其具有面对所述滑动面的配合面;以及,
穿过所述插件和盖板的螺栓。
14.根据权利要求1所述的真空处理腔,其特征在于,每个紧固组件进一步包括插入于插件和盖板之间的滑动板。
15.根据权利要求1所述的真空处理腔,其特征在于,滑动板包括聚四氟乙烯板。
16.一种将喷头组件固定到真空处理腔上的方法,所述方法包括:
将背板固定结合于真空处理腔;
使用多个紧固组件将穿孔喷头板与背板连接,使得穿孔喷头板与背板滑动结合;以及,
在穿孔喷头板与背板之间提供气体密封。
17.根据权利要求16所述的方法,其特征在于,滑动结合包括通过滚珠轴承组件将穿孔喷头板与背板螺栓连接。
18.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括在穿孔喷头板与背板之间插入衬垫。
19.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括定向每个滚珠轴承组件,使其与从喷头板中心放射状延伸的假想线对齐。
20.根据权利要求16所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括在一点上将喷头板固定结合至背板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥博泰克LT太阳能公司,未经奥博泰克LT太阳能公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010624484.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:使用可燃性制冷剂的空调器
- 下一篇:空调器的定时开关系统
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的