[发明专利]磺酰光酸产生剂和包含该磺酰光酸产生剂的光刻胶

权利要求书

1.一种如下式Ⅰ所示的光酸产生剂化合物：

其中W，Y相互独立地为氢、氟、任选取代的氟烷基；任选取代的氟烷氧基；或任选取代的氟代碳环芳基；

W’，Y’相互独立地为与W，Y相同基团；

W”，Y”相互独立地为与W，Y相同基团；

n，n’和n”各自相同或不同，并且分别为正整数；

U，U’和U”各自相同或不同，并且分别为连接基团；

R，R’和R”各自相同或不同，并且分别为任选取代的碳脂环基团，任选取代的杂脂环基团，任选取代的碳环芳基，或任选取代的杂芳香族基团；

X⁺是反离子。

2.一种如下式Ⅱ所示的光酸产生剂化合物：

其中W，Y相互独立地为氢、氟、任选取代的氟烷基；任选取代的氟烷氧基；或任选取代的氟代碳环芳基；

W’，Y’相互独立地为与W，Y相同基团；

n和n’各自相同或不同，并且分别为正整数；

U，U’和U”各自相同或不同，并且分别为连接基团；

R和R’各自相同或不同，并且分别为任选取代的碳脂环基团，任选取代的杂脂环基团，任选取代的碳环芳基，或任选取代的杂芳香族基团；

X⁺是反离子。

3.权利要求1或2的光酸产生剂，其中X⁺是锍或碘鎓化合物。

4.权利要求1或2的光酸产生剂，其中X⁺为下列式中之一：

其中，R₁到R₅相互独立的为任选取代的C_1-30烷基，或取代的或未取代的碳环芳基团，或R₁，R₂和R₃中的任意两个或多个可连接在一起与硫环形成环。

5.权利要求1或2的光酸产生剂化合物，其中X⁺为下列任意基团：

其中，那些式中的P¹，P²，P³，P⁴，P⁵，P⁶和P⁷相互独立的表示氢或1到5非氢取代基。

6.权利要求1或2的光酸产生剂，其选自：

其中，那些式中的P¹，P²，P³，P⁴，P⁵，P⁶和P⁷相互独立的表示氢或1到5非氢取代基。

7.一种光刻胶组合物，所述组合物包括权利要求1到6任意之一的光酸产生剂化合物。

8.一种形成光刻胶浮雕图像的方法，所述方法包括：

a)在基材上涂布权利要求7所述的光刻胶组合物的涂层；

b)将光抗蚀剂涂层曝光于活性辐射，对曝光后的光刻胶涂层显影以提供浮雕图像。