[发明专利]光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂

权利要求书

1.一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。

2.权利要求1的制备方法，其中烷基硫代化合物具有通式

R-S(CH₂)_n(CH₂LG)，其中：

R是非氢取代基；

n是3到6的整数；以及

LG是离去基团。

3.权利要求1或2的制备方法，其中含锍化合物与氟代磺酸连接。

4.权利要求3的制备方法，其中氟代磺酸具有通式R(CH₂)_n(CF₂)₂SO₃-，其中n是2到8的整数，以及R是非氢取代基。

5.权利要求1-4中任一项的制备方法，其中制备得到的光酸发生剂化合物选自下列通式(Ⅰ)和(Ⅱ)：

其中，每个通式Ⅰ和Ⅱ中，R是氢或非氢取代基，如直链，支链或环状的C_1-20的烷基。

6.权利要求5的制备方法，其中R是叔丁基。

7.一种含有阴离子组分的光酸发生剂化合物，所述化合物选自下列：

8.一种光酸发生剂化合物，所述化合物选自下列：

其中，R1，R2和R3各自独立是相同或不同的非氢取代基；

其中R1，R2和R3各自独立是相同或不同的非氢取代基。

9.一种光酸发生剂化合物，所述化合物选自下列通式(Ⅰ)和(Ⅱ)：

其中，每个通式Ⅰ和Ⅱ中，R是氢或非氢取代基，如直链，支链或环状的C_1-20的烷基。

10.权利要求8的光酸发生剂化合物，其中R是叔丁基。

11.根据权利要求1-4中任一项的制备方法制备得到的光酸发生剂化合物，其中光酸发生剂化合物选自下列通式(Ⅰ)和(Ⅱ)：

其中，每个通式Ⅰ和Ⅱ中，R是氢或非氢取代基，如直链，支链或环状的C_1-20的烷基。

12.权利要求11的光酸发生剂化合物，其中R是叔丁基。

13.一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括树脂组分和权利要求7-12中任一项所述的光酸发生剂化合物。

14.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，包括：

a)将具有权利要求13所述光致抗蚀剂组合物的涂层施加到基底上；

b)用形成图案的激发辐射曝光光致抗蚀剂涂层，以及使曝光的光致抗蚀剂涂层显影以提供一种浮雕图像。